二手 KOKUSAI Vertron III / DJ-803V #9270558 待售
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ID: 9270558
晶圆大小: 8"
优质的: 1999
Vertical LPCVD furnace, 8"
Process: LPCVD Nitride
CX2001 System controller
SECS/GEM Communication: Load station
BROOKS SMIF Loader
MIDAS Gas detector: Process gas detection module
N2 Purged load lock
WIP Carrier storage capacity: 8"
Wafer spacing: 6.5 mm
Load size: 125 Slots
Boat rotation
Furnace:
CQ1501A Temperature controller
(4) Zones
D4EX02626 Heater: Mid temperature
Process temperature: 650°C-780°C
Flat zone length: 1200 mm
QUARTZ Process tube material
QUARTZ Wafer boat material
Tube seal: O-Ring seal (Viton)
Temperature control methodology: Closed loop (PID)
Thermocouple type: R-Type
Process gas control system:
Process gases (LPCVD):
HORIBA STEC Z500 MFC
Process gases: DCS, NH3
Other gases: N2
Process pressure control system:
EDWARD QDP80 Vacuum pump
Dry pump capacity: QMB1200
Fore line size: 80
CX1204 Pressure controller
Process manometer
Pressure differential manometer
Pump manometer
Inline cold trap
Exhaust controller
BROOKS SMIF Loader (Left/Right):
Integrated and base mounted with cassette optical light sensor detection
Heater voltage: 280 VAC, Single phase, 42 K A/C
Controllers: 100 VAC, Single phase, 10 K A/C
Clean unit: 100 VAC, Single phase, 10 K A/C
1999 vintage.
KOKUSAI Vertron III/ DJ-803V扩散炉是一种多用途、高度可靠的生产级扩散设备，具有经验证的KOKUSAI半导体设备质量。该系统采用高功率顶侧加热器（TSH）和底侧加热器（BSH）,温度均匀,最高可达1180℃,并配有加热的炉盖,可实现高温均匀性和快速热浸泡时间。KD-101E控制单元具有易于阅读的液晶触摸面板显示屏,可完全控制多达五种可编程配方和各种选项。该炉还包含两个独立的冷却风扇，提供了良好的温度控制和可重复的结果。此外，DJ-803V还配备了先进的安全功能，包括氧气传感器和氧气水平低于指定设定点的自动关闭。该机提供精确的温度控制，用于任何应用的精确处理，包括均匀的高温氧化膜和精确的磷扩散。KOKUSAI VERTRON III DJ-803V的内置平板晶片能力允许对最大直径6英寸的大型晶片进行有效和均匀的处理。该工具的内部温度控制使得它非常适合于扩散、氧化和退火等应用，以及具有精确和高度可重复结果的原位掺杂。此外，Vertron III/C DJ-803V还可以配备各种可选配件，以满足个别客户的需求。这些选项包括用于清洁炉膛的氮源、不锈钢晶片载体、低温装置、重型起重销、真空压力系统和先进的冷却风扇。可选附件使资产具有高度的通用性,能够处理各种处理需求。VERTRON III DJ-803V是满足低温和高温扩散以及设备制造需求的理想模型。这种扩散设备的可靠和一致的性能使其成为一种经济高效的生产级解决方桉,符合精确和高质量的扩散处理任务。
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