二手 MRL 814 #9304776 待售

MRL 814是一种先进的扩散炉及配件，设计用于各种热应用和薄膜沉积。扩散炉用于在包括半导体晶片、传感器、薄膜电池和其他电子元件在内的基板上制造薄膜。814在整个基板上提供出色的控制、操作周期、加热速率和均匀性,非常适合当今的高温精密薄膜应用。MRL 814使用比大多数其他扩散炉更大、更深的截面室。这使得较大的晶片可以加载到基板支架顶板上，并且可以进行高度均匀的加热。814的最高工作温度约为800 °C，适用压力范围为0.1至3 Torr。MRL 814独特的设计允许均匀加热，即使在紧密的足迹下，使用垂直石英边。该装置还配备了双温度传感器，以确保最准确可靠的温度读数。与所有Fischer Scientific扩散炉一样，814包含了一个优化包，它可以增强对程序参数的控制，并允许精确调整绝缘和加热器功率。MRL 814包含许多配件以提升生产力。包括用于排气的软管连接,允许用户直接将真空线连接到腔室,而无需修改管道路径或附加硬件。还有一个814随附的真空人口减少系统，有助于快速轻松地清除腔室中的腐蚀性物质。MRL 814除了技术进步外，还有一个全面的2年保修和一个经验丰富、知识渊博、知识渊博的客户服务团队，对扩散炉和薄膜沉积的所有相关事宜都有后盾。考虑到这一点，814是任何需要可靠、高性能扩散炉和附件的设施的绝佳选择。