二手 TEL / TOKYO ELECTRON A303i #293667428 待售
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ID: 293667428
晶圆大小: 12"
优质的: 2004
Vertical diffusion furnace, 12"
LTO Poly
Process: DIFF
Gasses: SIH4, SI2H6, 1% PH3/N2, LTO520, CLF3
(2) Load ports
Loader arm
Transfer arm
FUJIKIN Gas box
Does not include Hard Disk Drive (HDD)
Missing parts:
Part number / Description:
Q400-183245 / VAC Line 1
Q400-161162 / VAC Line 2
Q230-021126 / Turn table
Q400-252325 / Flange
Q310-260595 / Outer guide ring
Q460-006564 / Support in ring
(3) Q320-082547 / MFC 16 Board
(4) Q320-060982 / DIO-I/F Board
Q320-083478 / DIO-ILK Board
Q320-072066 / GSR03 Board
Q320-162843 / MC-31255 Board
Q230-133460 / Wafer transfer
Q320-139834 / Board-control
Q400-236002 / Sol valve
Q310-230827 / Fork 1
Q310-230826 / Fork 2
Q310-125642 / Fork 3
Q310-230825 / Fork 4
Q310-230824 / Fork 5
Operating system: Linux
Power supply: 208 V
2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON A303i扩散炉是一种具有集成附件的全自动热扩散设备。它旨在提供半导体生产过程中最高的质量和产量。TEL A303i包括一个强大的沉积室，提供高效和可靠的热扩散过程。它利用快速热处理（RTP）快速加热扩散过程气体，使其升至预先设定的温度以上，提供均匀且高度重复的热扩散过程。放气速率也是可调的，允许精确的掺杂浓度和对扩散过程的精确控制。该系统包括用于氮气和工艺气体输入的自动快门，以及原位德加和冷却程序。整个过程由计算机控制室持续监控，确保安全操作。TOKYO ELECTRON A 303 I还具有内置化学气相沉积（CVD）室。CVD室由一个感应单元组成，该感应单元用于向沉积区引入硅和散热源。它还具有多个沉积源，以在大面积上提供均匀沉积，以及从源到目的地的均匀掺杂剖面。感应磁场提供均匀性，并允许对沉积参数进行精确控制，以获得最佳性能。A303i还配备了用于室内无损过程表征的计量平台。它包括板载特性如压力传感器、气体面板、温度面板和数码摄像机，以及室内分析的检测板。这样可以对基板参数和工艺步骤进行精确的测量和分析。TEL/TOKYO ELECTRON A 303 I机还提供多种配件和样品装载选项。可以配置为接受100毫米至300毫米晶圆，以及200毫米至400毫米平板。此配置为各种生产要求和应用程序提供了最大的灵活性。303 I是高容量和原型生产的理想解决方桉,为有效的热扩散提供了高效可靠的工具。TEL A 303 I以其集成的特性和附件,是半导体生产工艺的完美解决方桉。
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