二手 TEL / TOKYO ELECTRON A303i #9261571 待售

TEL （TOKYO ELECTRON） TEL/TOKYO ELECTRON A303i扩散炉是一种专门的半导体制造工具，设计用于在硅基板上沉积外延膜。它是芯片制造商在制造微处理器和其他电子元件时常用的。TEL A303i有一个高温热室，由耐热陶瓷加热器面板封闭。在热室内部，用一个加热的坩埚来扩散被沉积的材料。基板放置在热室的原子核中，由陶瓷加热器面板均匀加热。此外,多区域温度控制功能允许整个基板表面的温度均匀性和稳定性。TOKYO ELECTRON A 303 I的温度范围为300-1400 °C，温度可控制在± 1 °C以内。TEL/TOKYO ELECTRON A 303 I也有一个内建的自动质量流控制器（MFC），允许将反应物气体精确地输送到加热的熔炉。MFC调节输送到腔室的反应物气体量，确保外延层沉积过程的重复性和准确性。另外，室内压力可以用内置真空泵精确控制。为保证均匀优质的外延层沉积工艺，TOKYO ELECTRON A303i配备了先进的气体淋浴设备。该系统由两条独立的气线组成，淋浴压力可调。这保证了一个均匀的层厚度和均匀的气体分布横跨基板。而且，A 303 I配备了几个安全特性，比如温度过高和压力过大的报警器。它还包括一个实时监测单元，提供有关沉积过程的性能数据，包括气流和温度。此功能允许更大的过程控制和调节。综上所述，TEL A 303 I扩散炉是一种专用的半导体制造工具，适用于在硅基板上生产高质量的外延层。它配备了先进的气体淋浴机和多区温度控制功能，允许精确和可重复的层沉积过程。此外,内置的安全功能确保了用户的最大安全。