二手 TEL / TOKYO ELECTRON A303i #9271015 待售

TEL / TOKYO ELECTRON A303i
ID: 9271015
晶圆大小: 12"
优质的: 2006
Vertical diffusion furnace, 12" 2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON A303i是为硅片热处理而设计的扩散炉及相关设备。这个先进的系统以加热的墙壁、石英炉,以及容纳多种材料如多晶硅、铝、磷、以至的掺杂能力为特色。石英炉允许用户精确控制石英衬砌室的温度和压力,为可预测和可控的热处理提供了一个完美的环境。TEL A303i可提供高达1200 °C (2192 °F)的最高温度,石英腔室内的均匀度低至± 5°C。该腔室还设计用于最大限度地减少晶圆因加热和冷却造成的损坏;一个创新的设计特点是内置水套保护石英免受任何热冲击。TOKYO ELECTRON A 303 I可让使用者精确控制温度、时间和压力。预编程功能,包括浸泡时间和阶梯加热,可为用户提供对热处理参数的更大控制。流程控制器通过提供功能强大的车载计算机和用户友好的软件进一步增加了设备的灵活性,允许用户手动对流程进行编程或利用预先编程的功能。此外,用户可以从各种流程设置中进行选择,以自定义每个热流程。安装在腔室上的传感器在整个热过程中保持晶圆温度和压力的控制和监控。在硬件方面,这台机器由一个石英管、一个真空室和一个石英圆顶组成,每个圆顶的设计都与工具的最新技术兼容。资产还配备了安全气体压力调节器,以确保所使用的气体保持在规定的限度内。此外,晶圆加热器板、热板和石英板可用于更加高效和可靠的热处理。303 I是一种可靠、易于使用的扩散炉和附件模型,旨在为用户提供对热过程的精确控制。它提供高达1200 °C的最高温度能力、低至± 5 °C的均匀性以及预先编程的功能,包括浸泡时间和阶梯加热,以满足各种热处理需求。这种设备由于内置的防热冲击功能以及精确控制温度、时间和压力的能力,非常适合硅片加工。
还没有评论