二手 TEL / TOKYO ELECTRON A303i #9271020 待售

TEL / TOKYO ELECTRON A303i
ID: 9271020
晶圆大小: 12"
优质的: 2007
Vertical diffusion furnace, 12" 2007 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON A303i是一种最先进的扩散炉和附件,旨在最大限度地提高半导体制造工艺的热处理效率和质量。TEL A303i在脆性膜、RTP、PAE、ALD、封装和SiC氧化过程中表现出色。它适用于各种应用,从超高吞吐量原型设计到用于生产的套件配置。TOKYO ELECTRON A 303 I有一个基炉组件,带有氧化铝涂层的负载端口,用于晶圆的快速和安全的装卸。负载端口内衬有凹进的静电卡盘屏蔽装置,以提高均匀性。晶片装载机能够在一个周期内传输多达200个4英寸、150个6英寸和80个8英寸晶片。卡盘还设计了加热器,用于统一的温度控制。A303i配有全程序排气温度控制和自动排气控制的温度控制器。风冷高温计可进行精确的温度测量。它还具有闭环处理反馈回路系统,其中使用各种传感器的反馈来维护过程参数和质量。该炉具有先进的数据分析和参数调整软件接口.温度、时间、气流、压力等参数都可以借助触摸屏控制面板实时调节。该软件还包括一个实时数据查看器,用于查看流程参数并帮助进行故障排除。TOKYO ELECTRON A303i还为用户提供了其他功能,如差分泵送以减少气体负荷波动、快速冷却腔室的"快速冷却"选项、双区域温度控制以及用于安全温度倾斜的过程控制热坡道。在安全性方面,TEL A 303 I拥有UL和CE Certifications,使得它可以在大多数生产环境中安全使用。该机还具有防酸不锈钢框架和耐用的石英密封件,以防止任何腐蚀或泄漏。TEL/TOKYO ELECTRON A 303 I是各种热过程的理想工具。它提供了出色的工艺一致性、高吞吐量、精确的温度控制和工艺数据分析功能,以确保以最高效的方式满足半导体制造需求。
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