二手 TEL / TOKYO ELECTRON A303i #9314615 待售

TEL/TOKYO ELECTRON A303i扩散炉及配件设计用于处理效率高、功率高的半导体晶片。设备包括炉膛、电阻加热元件、惰性气体源、非反应性气体源、冷却风扇和电源。炉膛是为容纳低压过程环境而设计的，由陶瓷和金属制成。它具有可编程的温度范围，从30℃到1,200℃，使得可调节的过程流量和温度的精确控制。加热元件由铁铬合金导线组成，为加工室提供均匀的传热和绝缘。惰性气体，通常是氮气或氦气，通过腔壁输送，以确保均匀的热量分布和清洁的环境。冷却风扇用于通过抽取电阻加热元件产生的热量来保持腔室温度。最后，需要一个专用的电源来为系统提供最佳的电力流量。TEL A303i扩散炉设计用于质量控制、半导体制备和晶圆掺杂应用。占地面积小，操作方便。此外，它的特点使得可定制和可编程的过程流有助于产生高质量的结果。温度控制的精确度使设备具备了针对特定应用调整工艺流速的能力。除了扩散炉外，还可以购买配件，以进一步定制机器。这些附件可以连接外部设备，如质量流控制器、高温计、附加传感器和监控软件。软件可以跟踪在腔室周期中实现的工艺参数，收集的数据用于生成综合报告。总体而言，TOKYO ELECTRON A 303 I扩散炉及配件设计可靠高效。它是半导体制备和晶圆掺杂工艺的一个经济高效的选项，为用户提供一个可定制的工艺流程和质量控制功能。