二手 TEL / TOKYO ELECTRON A303i #9351462 待售

TEL/TOKYO ELECTRON A303i是一种用于晶圆烘烤和快速热加工的半导体制造工艺的扩散炉及相关配件。每次运行可处理200毫米晶圆,工艺温度可高达1200 °C。用户可以根据应用从三种类型的热源中进行选择：电阻加热、交流电（AC）加热或直流电（DC）。该炉具有广泛的温度和流量控制参数，可以配置为满足工艺要求，包括气流、压力和晶圆温度。该炉还与多种气体输送系统兼容，包括集成原位质谱。为了保证晶片均匀性，TEL A303i配备了先进的PID温度控制设备，用于精确的温度控制。该高级系统利用高级算法快速准确地调整温度和工艺参数,确保每次运行过程中晶圆的均匀性。除了其温度控制单元外，TOKYO ELECTRON A 303 I还使用了多种气体输送系统来实现精确的薄膜沉积。气体面板允许现场监测和精确的流量控制，而集成质谱仪则允许快速绘制工艺大气的气体成分/浓度图。现场采样也可用于过程控制。TOKYO ELECTRON A303i在操作过程中提供高水平的安全性，有两个安全联锁，当盖子打开时切断炉子的电源。安全屏蔽也可作为附加的预防措施,以及在超出限制时通知用户的可听警报。该炉还包括若干视觉和听觉反馈系统，包括用于分析图形形式的温度和过程参数的显示监视器，以及用于实时控制、记录和监测过程数据和参数的两个模块。TEL/TOKYO ELECTRON A 303 I旨在方便地整合到现有的生产系统中，以及为用户提供直观的用户界面。其先进的软件允许用户定制炉子的许多系统，从而方便高效地运行。该炉还设有一个可选的警报机，当超出特定的工艺参数时可以激活。总体而言，A 303 I是一种可靠高效的扩散炉，具有一系列特点，可以满足半导体制造应用的需要。其先进的温度控制工具和气体输送系统的范围提供精确和一致的结果，确保整个晶片的均匀性。凭借其直观的用户界面和集成的安全系统，A303i可以成为半导体行业的宝贵工具。