二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-H #9097233 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-H是专门为加工复合半导体基板而设计的扩散炉及配件设备。它具有各种各样的安全、自动化和便利功能,使其成为实验室和生产工厂的理想选择,这些工厂需要可靠、高效的半导体元件大批量生产运行工具。TEL Alpha 303i-H扩散炉的建造精密，温度可达1,900°C。它还包括一个先进的加热控制系统和能够斜坡速率控制，使用户能够实现严格的过程控制和可重复性的统一结果。该工艺室用陶瓷窗密封，向晶片提供加压惰性或反应性气体流动，相信能提供优越的掺杂均匀性和产率以及优化的晶体生长环境。内部加载单元有助于在快速顺序模式下自动加载和卸载工艺室中的基板,并允许在同一负载锁定周期内同时运行多达三个基板。它还包括其他先进的载荷特性,例如在卡盘和卡盘环上施加均匀压力的力补偿机,这有助于确保基板和卡盘之间的接触,从而实现均匀的传热和优化的工艺稳定性。TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-H工具也在设计时考虑了用户的安全和便利。它包括先进的冷却水资产,其工艺和冷却回路位于不同的腔室中,以消除工艺和冷却回路之间交叉污染的可能性。该车型还配备了惰性压力控制设备、紧急停止按钮、泄漏检测系统等多项安全功能。除了主扩散炉之外，Alpha 303i-H单元还包括一些用于优化工艺运行的附件。其中包括为氧化和热氧化过程设计的氧化/扩散机；用于预扩散过程的GASDIFF预扩散工具；和一个蚀刻资产，以便于干湿蚀刻。该模型还包括用于软件集成的GASDIFF PC接口和用于简单直观操作的LCD触摸板控制单元。总之，TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-H设备是一种先进可靠的扩散炉系统，旨在最大限度地提高用户的灵活性、安全性和工艺稳定性。它为高效、可重复和高质量生产复合半导体基板提供了各种各样的特性和配件。