二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #293606613 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-K是由生产半导体生产设备的全球领先公司TEL（TOKYO ELECTRON Limited）开发的扩散炉及配件。这种设备是专门为真空炉CVD（化学气相沉积）工艺而设计的，在低成本、紧凑的设计中提供了较高的生产率和卓越的性能。TEL ALPHA 303IK扩散炉配有3区可编程逻辑控制器（PLC），用于控制自动功能。炉的工作温度范围为800 °C至1400 °C（1472 °F至2552 °F），基板温度精度在1100 °C（2012 °F）时± 2 °C，单个区域内均匀度± 10 °C。扩散炉提供垂直磁化器运动、大的工作体积和均匀性，使其成为大型晶圆工艺的理想选择。TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K也加装了额外的硬体配件，以改善其功能。这些附件包括一个角度感知器托盘、流量控制器、离子计、质量流量控制器、吹扫系统和独立冷却单元。倾斜的磁感器托盘可确保过程均匀性,而流量控制器可确保最多四个气体的连续流量。离子计用于精确测量炉膛内气体颗粒的水平。质量流控制器用于精确控制气体流量和压力，而吹扫机则提高了腔室的清洁度。独立冷却工具有助于冷却加热器,并在达到所需温度后停止该过程。除了提供增强的扩散能力外,TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303IK还提供卓越的安全功能。该炉采用互锁盖子、紧急开关和惰性供气资产设计，确保操作人员在使用过程中的安全。ALPHA 303IK扩散炉结合了方便、安全和精确的小型和经济高效的设计。它是许多半导体应用的理想选择，从IC制造的化合物扩散到纳米技术的薄膜和聚合物沉积。