二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #293606624 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-K是一种用于研发应用的扩散炉及配件。是先进半导体加工的热稳定平台。该炉工作压力为300 Torr，最高运行温度为2000°C。它配备了先进的安全特性，如BN55的磁增强石英窗、氢/氙热截止阀以及用于温度检测的红外热成像系统。TEL ALPHA 303IK提供6英寸的标准晶片尺寸和2000 µm的最大晶片厚度。它有一个带氧化铝衬里的石英热区，能够容纳室内最多三块石英。该系统允许通过介电加热器板对晶片进行背面加热，并具有两个通道的了。该炉能够控制多达24个石英。还配备了先进的温度测控能力。TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K的标准处理时间为10分钟，加热至给定温度。该炉可以接受大小和形状各异的晶片，允许工艺优化。它还包括高效的ICV阀、空气冷却系统和加热探测器。ALPHA 303 I K适用于低温过程，如氧化物介电生长和接触形成。它也是高温过程的理想选择，例如退火和金属化。它具有以全自动模式操作的能力,以及通过公司的TEL编程语言上传定制配方的能力。ALPHA 303IK是用于先进半导体加工应用的可靠、通用的工具。其内置的安全特性确保了安全运行，低维护设计提供了更高的产量和更低的运营成本。其先进的温度控制和测量能力使其成为任何研发实验室的理想选择。