二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #293606627 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-K扩散炉及配件是一种综合设备，为半导体器件的生产提供了经济高效可靠的解决方桉。TEL ALPHA 303IK扩散炉和配件具有广泛的选择和配置,可以满足特定的工艺要求。全自动供气设备和远程支持能力使其成为设备生产的高效可靠工具。TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K扩散炉提供广泛的工作温度范围，最大温度为1250 °C。它可以与多种前体气体一起使用，允许精确控制扩散气体浓度和雾化率。它配备了高精度的加热区温度控制系统，能够快速的加热和冷却时间响应。此外，该炉还设计用于晶片的快速装卸。它的自动化气体单元允许精确控制各种前体的气相，如硅和移植物。燃气机能够精确控制多达10种前体的流量和一个残留气体监测工具，以确保安全和准确的工艺结果。此外，自动气体资产还配有内部校准装置、压力控制模型和完整的设备诊断装置，用于自动检测错误和其他故障。TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-K扩散炉及配件还提供远程支持、温度均匀性控制、自动温度剖析等附加功能。温度均匀性控制系统为整个炉区提供了高水平的温度稳定性。此外,自动温度分析单元在晶圆上提供均匀的温度。这些功能有助于在扩散气体浓度过程中保持一致的结果。ALPHA 303IK扩散炉及配件还包括电子回旋共振（ECR）氧化、多晶硅电子回旋共振掺杂、原子层沉积（ALD）等扩展工艺能力。ECR氧化机利用高频（L-Band）信号产生氧自由基进行氧化和扩散过程。多晶硅电子回旋共振掺杂工具是由模式定义和负离子注入组成的两步过程。ALD资产通过脉冲激光将前体汽化，并将材料沉积在晶片上。总体而言，TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K扩散炉及配件是一种全面、安全、经济高效的半导体生产装置。它提供了广泛的温度、气体和工艺能力,以满足特定的工艺要求。此外,它还配备了自动化气体输送、远程支持、精确的温度分析以及扩展的工艺功能。这使得它成为半导体器件生产和工艺支持的理想选择。