二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #293608018 待售
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ID: 293608018
晶圆大小: 12"
优质的: 2005
LPCVD Furnace, 12"
Process: PIQ
(100) Process wafers
I/O Port / SMIF: FOUP
No load lock
25-Carrier slots
Boat type: Single
WAVES System controller
Operation screen: Touch screen
Gas flow chart: Front and rear
M560 Temperature controller
Vacuum pressure control: CKD VEC
Controller transformer: 208 V, Single phase
Heater transformer: 208 V, 3 Phase
Oxygen analyzer
RCU
Process gasses:
N2
O2
Gas distribution:
Basic style: Conventional
Tubing material: SUS-316L
Tubing finish: VCR
Air operated valve: FUJIKIN
MFC: STEC
Exhaust distribution:
Air operated valve type: IGS Connect
Wafer / Cassette handling:
(16) Cassette storage
Cassette In/Out port
Cassette handling robot
Wafer transfer type: 1 + 4
(5) Forks
Fork material: AL2O3
Fork variable pitch
Fork wafer presence sensor
Elevator handling:
Boat elevator
Auto shutter
Boat rotation
Spare parts
Heating chamber:
Heater type: VMM-56-201
(5) T/C Type
(5) Spike T/C
2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-K是一种先进的扩散炉，是半导体工业研究、生产和质量控制工作的必要工具。它旨在创建准确、均匀的掺杂剂轮廓,防止加工过程中的电泄漏。该炉专为绝缘子上硅（SOI）层的沉积而设计，非常适合应变工程、多层沉积以及生产高性能半导体器件。TEL ALPHA 303IK采用先进的加热设备,温度范围为200-1200 °C,可确保均匀准确的温度分布。它还配备了闭环热电冷却器（TEC），用于在加工过程中精确控制基板温度。先进的加热器控制器具有低功耗,使加热系统性能得到改善.此外，独特的晶片级掺杂剂验证单元提供准确的过程监测，即使晶片级的变化是存在的。TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K含有先进的强制流动气体分散机，提供均匀精确的气体分布。这一工具有助于保持化学气相沉积（CVD）和其他工艺的均匀性，方法是尽量减少沿基质的气体浓度的波动。随着扩散炉，还有各种配件，如石英加热元件、手动和自动输送机电机和晶圆卡盘。这些附件能够高效加工和低污染。ALPHA 303IK还具有灵活的冷却资产,可快速冷却和稳定半导体材料。其自动流体模型有效地管理温度，并确保整个冷却过程中晶圆级的热均匀性。此外，其屡获殊荣的智能真空排气设备还能提高操作效率，防止压力在工艺室内积聚。ALPHA 303 I K是为了安全可靠的操作而建造的；它包括一些安全功能，如紧急关闭和联锁。此外，该炉还配备了直观的GUI，能够方便编程和操作。总体而言，Alpha 303i-K是一种先进且高度可靠的扩散炉，旨在满足半导体研究和生产的需求。
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