二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #293626328 待售
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ID: 293626328
Furnace
Process: D-Poly
Process pressure: 73 Pa, 133 Pa
Process temperature: 510°C, 525°C, 530°C
Boat operation: (2) Boat type
Carrier ID Reader / Writer
ASYST ATR9100
Furnace:
Heater type: VMM-56-002 Mid temperature, (5) zones, 500°C - 1000°C
MA901-8FK09-Z250A Temperature controller
Wafer / Carrier handler:
Wafer type: 300 SEMI STD Notch
Carrier type: FOUP / 25-slots
(16) Carriers
Fork type / Material: 1+4 / Al2O3
Boat / Pedestal:
(100) Wafers
Boat material: SiC with CVD coat
Boat type: 117-Slots ladder
Pedestal type: Quartz
Process tube:
Material: Quartz
Inner type: Straight
Internal T/C type: Outer tube interior wall type
Tube sealing: O-Ring seal
Waves controller
Front operation panel
Front MMI and Gas Flow Chart (GFC)
Signal tower, 4-colours
Pressure display unit
Gas cabinet exhaust display unit
M560A Furnace temperature controller
Vacuum system:
Vacuum exhaust
CKD VEC Vacuum pressure controller
CKD VEC Valve
Pressure controller: MKS Capacitance manometer
Pressure monitor: MKS Capacitance manometer
Pump monitor: MKS Capacitance manometer
Gas distribution system:
Type: Integrated gas system
Tubing: Stainless steel
No tubing bends
Tube heater
FUJIKIN Manual valve
FUJIKIN Air-operated valve
MYKROLIS Pressure transducer
Soft backfill injector
Manifold heater
MFC:
SiH4 / 3 SLM
PH3 / 500 SCCM
PH3 / 50 SCCM
PH3 / 30 SCCM
ClF3 / 5 SLM
N2 / 3 SLM
N2 / 5 SLM (x4).
TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-K扩散炉是一种用于制造高性能半导体零件的半导体加工设备。该炉专为离子注入、氧化和退火过程而设计.它具有高精度、高速、低热氧化物应力的生产能力，实现了高达250毫米晶圆直径的优质均匀植入物。TEL ALPHA 303IK包括几项先进技术,可准确有效地控制所有工艺参数。其中包括获得专利的高级功率控制（APC）设备,该设备具有用于严格控制等离子体特性和均匀性的高性能电源,以及用于精确控制气流和温度以实现均匀和可重复结果的双Ti扩散（DTD）技术。直观的TELVision监控系统提供实时的流程监控和诊断。此外，Advanced Motorized Scanner（AMS）确保了25毫米晶圆的高精度、高速扫描。TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K还利用了专利的直接热解还原（DPR）装置，使扩散炉能够使用通量较高的低温热解（化学气相沉积）工艺，同时避免冷壁效应和工艺不均匀性。此外，可选的MEMS扩展套件允许以高达10倍的放大倍率处理MEMS（微机电系统），用于精确成型和蚀刻。TEL ALPHA 303 I K配有一套全面的附件，用于监测和控制扩散过程的各个方面。该装置包括一台自动快门机，用于无错误启动，一台用于控制等离子体产生和阻抗匹配的射频发电机，一台用于阻抗控制的E-box电阻率控制器，一台用于管理所有刀具功能的集成控制器，一个用于控制基板温度的负载室，以及一台用于快速泵送的高真空涡轮泵。为了最大限度地提高产品生命周期并最大限度地减少过程维护,TEL设计了TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K,具有强大的构建和先进的安全功能,包括一个集成的安全资产,可防止事故和人员、支撑结构以及周围环境受到损坏。该单元还具有一些方便使用的有用功能,包括易于维护和运输的设计。而且，该炉经认证符合Sematech标准对光学和辐射安全的严格要求。最先进的ALPHA 303 I K提供最先进的性能,使您的生产线保持其最高效率。它结合了尖端的扩散烤箱技术和全面的配件,提供可靠、可重复和高质量的加工结果,帮助您保持较低的生产成本和较高的产品产量。
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