二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #293690686 待售
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TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-K是一种扩散炉及配套配件，旨在帮助微电子工业中掺杂半导体的过程。它是一种高效扩散炉，热预算极低，温度坡度为200 °C/秒，温度均匀度为0.1°C或更高。该炉可以同时使用3"和4"晶片，并且能够在卸载的安普尔中掺杂多达7个晶片模具。TEL ALPHA 303IK具有加固的自动改进石英安培驱动设备,可确保稳定、准确的操作。该炉通过电阻加热系统进行加热，并设计了夸脱氮化硼涂层壁，为高温处理提供了良好的热稳定性。它通过精心设计的石英挡板和0-100°C/s的温度坡道的可控组合，具有极好的热均匀性。安普尔装有惰性气体或ArCl2溷合物，以确保适当的掺杂。TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K使用光热测法监测炉内温度，确保整个室内的均匀性。而且它还包括一个带有图形界面的触摸屏液晶控制器，以方便过程优化。TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-K配备了原位压力监测仪，以改善掺杂气体在炉内的均匀分布。它还配有水互锁单元，以保护炉子免受过大的水压，从而确保安全运行。TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K附有一系列旨在提高晶圆加载精度的配件， 防止晶圆漂移,并使用进口的自动手柄负载端口轻松高效地处理晶圆。总体而言, Alpha 303i-K是一种优良的扩散炉,具有高质量的热均匀性, 一个宽广的温度坡道范围，以及一个加固的自动改造石英安培驱动机器。它可以为多达七个晶片模具提供准确和高效的掺杂，并配有一系列强大的附件，以支持各种其他工艺。
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