二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #9394532 待售
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ID: 9394532
晶圆大小: 12"
优质的: 2009
Furnace, 12"
Process: Silicon nitride (SiN) deposition process using dichlorosilane‑based chemistry
2009 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-K是一种扩散炉和附件，能够将各种材料快速、精确、低温的薄膜沉积在基板上，用于半导体制造。适用于多种应用，包括退火、修复、氧化、薄膜沉积等。该机先进的控制系统提供了温度剖面、时间、压力、气流、大气成分等参数的精确控制。这样可以灵活高效地生产高质量、高精度的薄膜。TEL ALPHA 303IK具有高性能并行扩展TEM （TEM）过程模块。此模块允许精确控制高达1000 °C的过程温度,并提供了大量的温度剖面。它还设有一个旨在最大限度地减少热量损失的炉窗和一个现场温度测量系统，以确保整个过程中统一的温度控制。拥有种类繁多的可选配件，TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K可用于铂金氧化硅薄膜退火、氧化、沉积等应用。它也可用于保护电子发射器表面和控制材料的表面粗糙度。另外，机器与多种类型的材料兼容，包括各种金属、硅片、GaN晶体和玻璃。ALPHA 303IK快速、高效、易于安装和使用。它具有用户友好的触摸屏和各种安全功能,如接地底盘、高压隔离和泄漏测试监控。此外,它又紧凑又易于携带,是各种环境下各种生产工艺的理想选择。总体而言，Alpha 303i-K是为满足半导体制造商的需求而设计的高性能扩散炉及配件。它拥有先进的控制系统和各种可选配件,可实现快速、精确、均匀的薄膜沉积,是各种应用的理想选择。
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