二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #9394535 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-K是半导体制造工业中使用的单帧、大型、通用加工设备。该系统有扩散炉和辅助设备两个部件。TEL ALPHA 303IK扩散炉具有提高均匀性和快速运行时间等诸多优点。炉本身在晶圆的广域上具有大约± 1°C的高热均匀度，大约20分钟就能达到1150 °C的温度。该炉还有两个独立的区域，设计用于两种不同类型的加工能力。浮带可处理高达1,200 °C，石墨带可达1,700 °C的温度。此外，该炉采用U形石英管设计，提供均匀的加热和冷却，以确保高质量的薄膜沉积。该装置还配备了辅助设备，增强了炉子的加工能力。这包括一台计算机控制的晶片装载机/卸载机、四套非接触式真空开/关电容计、三种热卡盘选项、一个独立的预热站和一台气体进料机。晶片装载机/卸载机允许晶片通过精确控制自动装卸。非接触量规提供晶圆温度的精确测量，而热卡盘选项增强整个晶圆的热均匀性。独立预热站提供高晶圆温度均匀性的快速预热时间，而供气工具则提供多种工艺气体，用于薄膜的可靠沉积。总体而言，TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K是一种出色的扩散炉资产，具有可靠的性能。其广泛的处理能力使其成为各种过程的理想选择。计算机控制的晶片装载机/卸载机、独立预热站和非接触式真空开/关电容计增加了模型的效率和准确性。该炉在很大范围内具有± 1°C的高热均匀性，可确保在短时间内生产高质量的薄膜。