二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #9394989 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-K扩散炉是一种先进的大型半导体制造植入器。该设备设计用于金属、陶瓷等材料的高效热处理，用于微电子及相关应用。它设计有一个开放式腔室，可以方便地访问各个组件。TEL ALPHA 303IK由托盘室、下部控制区和上部处理区三部分组成。托盘室具有预热区和退火区,用于受控热处理.它还装有可移动托盘，可容纳各种基板。这些托盘采用高性能铝制成，热分布均匀，使得低温工艺步骤得以快速高效地完成。此外,托盘还具有集成冷却系统,可在处理步骤之间进行更改时快速冷却。下部控制部分配有先进的空气再循环装置，确保工艺环境的完整性。这是用HEPA和ULPA滤波器实现的bya两级滤波器，防止外界污染。这确保了过程环境不受外来粒子的影响。它还配备了智能用户友好监测工具，该工具提供关于每个工艺步骤的确切条件和参数的详细信息。TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K的上部工序区域由气体进气歧管、石英加热基板架和功率控制器组成。基板支架具有气体注入和冷却的孔径，设计目的是最大的加热速率，实现均匀加热。电源控制器用于控制加热元件的温度，从而实现高效、均匀的热处理。除了主要资产外,还有一些可用的附件,例如用于设置预热和退火温度的可选磁感器控制板、光学高温计和光谱成像模型。该设备用于自动光学检测和分析基板加工后的微观结构。总体而言，ALPHA 303IK扩散炉可以为微电子应用提供金属、陶瓷等材料的高效热处理。它设计有一个开放式腔室，可以方便地访问单个组件。该系统进一步增强，配备了先进的空气再循环装置，确保了工艺环境的完整性，并配备了多个附件，在执行各种处理步骤时可实现更高的精度。