二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #9402693 待售

TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K
ID: 9402693
晶圆大小: 12"
优质的: 2002
Furnace, 12" Process: Metal Thermal Oxidation (MTO) 2002 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-K是专门为钨和溅射氧化膜生长应用而设计的扩散炉。它具有许多先进的特点,非常适合薄膜生长和沉积过程。这个扩散炉装有极性反向"T"电极,允许精确调整炉与邻近电极之间的连接点。这消除了电极及其各自电源未对准的潜在问题。TEL ALPHA 303IK扩散炉有一个三区自动热控制设备,确保整个室内的温度管理准确。该系统能够从腔室的3个点保持对温度的精确控制,并能够监测内部最高20个点的温度。这确保了精确的温度管理,这对于精确的薄膜生长和沉积过程是绝对必要的。TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K利用数字PID控制技术进行精确的温度控制,进一步确保了精度和一致性。炉子还配有不间断电源(UPS),使得即使在停电后也可以继续沉积过程。TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303IK还配备了一个可听报警装置,在发生温度故障或机器故障时向用户发出警报。此外,该炉还具有记录温度、压力和射频功耗的数据记录工具,使用户可以轻松分析和记录数据以进行进一步研究。ALPHA 303IK还配备了一些有用的附件和功能,使用户能够最大限度地提高其性能。其中包括钼船和动力提升装置、石英电流表、气动阀以及手动和电动百叶窗。所有这些有用的附件使TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-K成为研究或工业应用的绝佳选择。TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K是一种可靠高效的扩散炉,非常适合薄膜沉积和其他需要精确温度管理的工艺。其尖端技术和先进功能确保了高精度和一致性,以及安全可靠的操作。这使得TOKYO ELECTRON ALPHA 303IK薄膜生长沉积的理想选择。
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