二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-KVC #9381849 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-KVC是一种用于关键半导体器件制造及相关服务的扩散炉。TEL Alpha 303i-KVC设计用于高真空环境，利用先进的气体管理技术帮助减少氧化物污染。该炉采用高效的冷墙设计，内部采用钨包膜，加长的奥里尔屏蔽层，可聚焦于均匀的温度梯度，同时减少颗粒损耗。内部钨包膜还保证了较高的温度均匀性，并在一个区域到另一个区域的温度变化最小，这对于精确控制扩散处理是有益的。熔融二氧化硅管的设计特点有助于为高质量的加工环境提供良好的工艺气流控制。TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-KVC还被设计为提供高效的源和排水疏散，提供不间断的物料流动以防止氧化，从而提高器件产量。为确保保持极高的源和排水压力,腔室具有数字压力和流量控制功能,可选择5到250毫升的进/出压力。此外,Alpha 303i-KVC还包括一个CVD耐受性AMAT™环绕感受器支撑,使其成为CVD/ALD应用的理想选择,并通过抑制颗粒问题来减少腔室维护。CVD耐受性环绕感受器也有助于提高薄膜沉积和蚀刻结果的均匀性。先进的过程控制系统可确保在可重复的过程中进行一致的处理,并为单层和多层应用程序提供易于使用的可编程功能。为了确保最佳的工艺质量和可重复的工艺结果，TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-KVC的设计包括先进的诊断和监测，包括通过闭环压力调节和负载排序进行实时和后工艺监测。流程控制还包括晶圆级和流程参数的数据记录,以进行广泛的报告和分析。总体而言，TEL Alpha 303i-KVC是关键半导体器件制造和相关服务的理想扩散炉，为一致和可重复的结果提供了先进的处理环境。