二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-KVCFN #9381864 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-KVCFN是一种垂直的单晶圆扩散炉，用于在半导体基板上生长多晶硅、硅散硅、非晶硅等高性能材料。该炉能进行高达1250摄氏度的高温处理，均匀温度± 2摄氏度。TEL Alpha 303i-KVCFN提供高吞吐量性能,维护要求低,高性能循环率高达每小时16个晶圆。此外，该炉还配备了具有独立感受器温度控制技术的多区感受器，能够在单个晶圆的基础上实现精确的温度控制。TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-KVCFN还采用了低排放、节能的结构和先进的计算机控制设备，提供精确的温度控制和长期的可靠性。Alpha 303i-KVCFN由于直接的空气冷却结构而提供均匀的温度分布。加热室底部的空气温度由专用低噪声轴向风扇产生的冷气流冷却。这样可以确保炉子周围的温度均匀,从而支持晶圆的生长.此外，它还包括一个隔热的冷墙，以减少热量进入和提高温度均匀性。TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-KVCFN通过一系列功能提供前所未有的性能。其中包括高端温度控制系统，以提供温度范围宽的精确温度控制；先进的气体喷射装置，有助于保持均匀的温度和气体溷合；用于精确浓度控制的高精度阀门气体歧管；坡度高达6000°C/小时,持续温度高达500°C；硅膜快速成核的P动能源；以及易于维护和升级的模块化设计。此外，TEL Alpha 303i-KVCFN完全采用非质体技术，以确保清洁安全运行。它包括一台无氯气体喷射机，消除了危险副产物六氟化硫（SF6）的形成。最后，通过使用互锁工具来保证安全，以保证不间断的操作和防止人员受伤。TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-KVCFN是一种先进的扩散炉，为高性能材料的生长提供均匀的温度、精确的温度控制和高通量。其独特的特点使其成为集成电路和其他半导体器件制造和发展的理想解决方桉。