二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-KVCFN #9381866 待售

TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-KVCFN
ID: 9381866
晶圆大小: 12"
优质的: 2005
Furnace, 12" Process: DCS-HTO Heater type: FTP VOS-56-003 4 Zone With RCU Gases: N2, NH3, SiH2Cl2, N2O, SiH4 2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-KVCFN是为实现复杂硅片加工的高效掺杂而量身定制的扩散炉及配件。这种工业级设备在半导体芯片上采用Kappa-V Czochralski(KVC)的晶体生长浮带法。该设备为用户提供两个KVC灯,与三区石墨敏感器系统集成在一起,可有效加热甚至生长晶圆。TEL Alpha 303i-KVCFN具有温度可控的大型水冷石英室,可有效促进高纯度工艺气体的热印循环。其电源基座单元设计为为每个KVC灯提供平稳、精确的电压,保证一致、精确的运行。该炉还具有上层、中层和下层区域的独立温度控制功能,可提供全过程控制。TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-KVCFN利用一个特殊的条形图单元,使用户能够监视和比较每个区域的温差。此外,该腔室还具有增强抗氧化性的特殊设计元件.这大大提高了炉子的寿命,并允许在较长时间内安全运行。Alpha 303i-KVCFN的石墨敏感器设计用于在半导体晶体生长和沉积过程中实现整个过程的精确温度控制。这是由前真空石英室进一步增强,调节温度和压力,以提高质量和高效操作。此外,机器的高纯度气体输送工具确保有效的掺杂作用在整个晶圆,消除热点等问题。综上所述,TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i-KVCFN是一种工业级扩散炉和结构,具有许多技术进步,以确保复杂硅片加工的掺杂成功。该资产提供了改进的温度控制、增强的抗氧化性和高纯度气体输送,以提高质量。
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