二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i Nitride #293596434 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i Nitride是为半导体工业设计的扩散炉及配件。它是为满足最苛刻工艺的需要而设计的，并被用于广泛的应用，包括薄膜的沉积和蚀刻、表面处理、氧化和氮化物处理。TEL Alpha 303i Nitride是一种高性能扩散炉，使用垂直直热热区设备和垂直通风量。这种配置提供精确的热均匀性，极好的温度稳定性和精确的温度分布均匀性在晶圆水平。采用垂直热区加热系统和扩大的通风量，最大限度地提高了晶圆级均匀温度分布的均匀性，提高了工艺和产品产量。TOKYO ELECTRON ALPHA 303i Nitride配备了最新的温度控制技术，允许精确的温度设置、坡道速率控制和炉循环控制。它带有一个触摸屏控制器，可以方便地监控和设置流程参数。它还配备了可编程逻辑控制器（PLC），用于过程参数的自动设置和控制。热区由导电材料制成，作为热源，进一步最大化传热，从而提高热均匀性和温度稳定性。热区还配备了阳极组件，有助于控制和调节用于控制温度的电流。Alpha 303i Nitride还带有安全功能，以确保工艺操作员的安全。它具有超温报警器、爆炸和火灾报警器、紧急电源关闭等环境保护，此外还有一个自动联锁装置，防止在操作炉子时打开热区。TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i Nitride机的设计提供最大的工艺灵活性。它可以处理各种不同的晶片类型和大小，以及各种处理氮化物的工艺配方。它还设计用于快速轻松的维护,具有简单的一触校准和多种诊断工具,可确保过程稳定性和优越的产品产量。同时双晶片对准也可用于双面氮化物涂层。总之，TEL Alpha 303i氮化物是为半导体工业设计的高性能扩散炉及配件。它配备了最新的温度控制技术和安全功能，以确保最大程度的安全和过程稳定性。它能够处理各种用于氮化物处理的晶圆类型、尺寸和工艺配方，提供最大的工艺灵活性和优越的产品产量。