二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i Nitride #293807549 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i Nitride是一种扩散炉及配件设备，专为高效可靠处理半导体氮化物层而设计。它非常适合生产高性能电源和逻辑设备,并为控制厚度、板材电阻和其他关键工艺参数提供了良好的环境。这个扩散炉使用单一源气体，典型的氮气，沉积低成本的氮化物薄膜具有极好的均匀性。TEL Alpha 303i Nitride提供全方位的工艺能力，允许沉积均质和多层薄膜。它的高工作温度（高达1150 °C）确保了高质量的薄膜，而它的低反应物浓度（1 ~ 4% N2）允许更安全，更低的速度增长速度。该系统由一个三区炉和一个下游热壁氮化室稳定。此外，还包括一艘低调的石英石英船，以确保样品表面的均匀性。TOKYO ELECTRON ALPHA 303i Nitride配备了最先进的多通道气体输送装置，用于对工艺参数的精确控制。这台机器使用户能够密切监视和调整反应室中的气体浓度，提供处理灵活性。除了气体输送工具外，Alpha 303i Nitride还提供了先进的真空资产，用于最佳工艺控制。这样可以精确测量压力、温度、汽化率和气体浓度。TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i Nitride还提供了一套监控功能。利用其专门的传感器、温度计和离子计，用户可以轻松监控和调节冷却器温度、气体流量、层厚度以及其他必要的工艺参数。该型号还配备了高精度监控装置和车载计算机，让用户能够精确控制氮化物沉积过程。TEL Alpha 303i Nitride是寻求高效可靠设备生产优质半导体氮化物层的人的绝佳选择。其通用的工艺能力、先进的气体输送和监控系统以及车载计算机使用户能够以无与伦比的精度和精确度高效处理同质和多层薄膜。