二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i Nitride #9282707 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i Nitride是一种用于半导体和薄膜生产的扩散炉及配件。它是热氮化物、LPCVD、多外延和蚀刻工艺等多种加工步骤的理想选择,每一步骤均具有出色的温度均匀性和可重复性,以确保产品质量一致。TEL Alpha 303i Nitride由加热区和淋浴板两个截然不同的部件组成，并由可编程电源供电，允许精确一致的热力。加热区是一个工程石英热观察窗口，位于系统顶部，在350至1200 °C的温度下运行。淋浴板产生均匀分布在工艺室内的温度，由阳极和接地平面定义，供应频率为400到2000Hz。该系统具有12升的腔室容积和一个接入口，允许腔室内部和外部之间快速交换材料。其先进的温度稳定性、均匀性和可重复性保证了所制造的薄膜和被加工的基板的精确和一致的厚度。具有触摸屏界面的数控（NC）设备允许炉子的可调安全操作,用户可以在自动启动每个循环之前设置预定的处理参数。TOKYO ELECTRON ALPHA 303i Nitride还包括旨在改善生产周转时间的附加功能,例如自动启动功能,该功能可确保所有循环参数在多个运行中得到维护。Alpha 303i Nitride专为人员和材料的最佳安全而设计，该室配有温度和压力报警器和关闭功能，以及水冷外板，可提供额外的防热保护。该系统的高性能加上用户友好的设计和卓越的安全标准，使得TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i Nitride成为扩散炉需求的绝佳选择。