二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i #293592993 待售

TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i
ID: 293592993
晶圆大小: 12"
LPCVD Furnaces, 12".
TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i是一种扩散炉和相关配件,能够执行各种半导体加工任务。使用钨卤素灯和气体溷合物,TEL ALPHA-303I能够达到高达1250°C的温度,这是一项令人印象深刻的壮举。内置温度控制器和可编程逻辑控制器(PLC)可实现精确、定制的处理温度控制。TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I配有一个专门的工艺室,用于热和化学气相沉积,三氯硅烷,或湿蚀刻。此次升级使得沉积或蚀刻硅或铝化合物,或类似金刚石的碳膜能够增强电学和光学性能成为可能。TEL ALPHA 303 I也提供了沉积或蚀刻铝、银、镍、钛等各种金属的能力。TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I还配备了电力供电系统,使其能够在比其他大多数扩散过程更高的电流和电压水平下运行。这允许手动或可编程地控制电流和电压,以实现更快的处理时间,以及增加横向扩散过程中的沉积速率。此外,TEL ALPHA-303 I还可用于离子注入、光刻和干蚀刻等多种工艺。TOKYO ELECTRON ALPHA 303i的高温和真空能力,由于热均匀性的提高、沉积速率的提高和污染的减少,对这些过程是有利的。最后,可以在TOKYO ELECTRON ALPHA-303I上安装单晶片负载锁系统(SWLLS),进一步提高扩散炉的能力。该系统允许快速、均匀地处理多个晶片,使其最小程度地暴露于空气中,使其成为研发用途的巨大资产。总之,ALPHA 303 I扩散炉是一种功能强大、用途广泛的半导体加工工具。其高温真空能力,加上一次处理多个晶片的能力,使其成为研发项目的诱人选择。
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