二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i #9186622 待售
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ID: 9186622
晶圆大小: 12"
优质的: 2006
Vertical diffusion furnace, 12"
Process: TOZS Anneal (Tones SilaZene)
Main top cover
WVG
I/O Unit
I/O Top cover
Loadport
Back door
Exhaust box
Operation panel
Gas box
Power box
RCU
RCU 1
RCU 2
Heater chamber
RCU Duct
(3) Parts boxes
NDU
Lot capability: 50
Process speed per unit time:
Wafer CHG, loading: 40
Process: 2H
Wafer DIS-CHG, un-loading: 40
Clock bandwidth: 60 Hz
Frequency: 60 Hz
Power:
208 V, 200 A, 3 Phase (Heater)
200 V, 40 A, 1 Phase (Controller)
2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i是为高性能半导体制造而设计的最先进的扩散炉及配件设备。这种先进的工具结合了尖端技术和功能,可精确控制扩散过程,从而能够生产具有卓越性能特性的高质量半导体器件。TEL ALPHA-303I系统的核心是扩散炉，它是制造半导体器件的关键部件。炉子设有多个加热区，每个加热区都有独立的温度控制能力，允许在扩散过程中进行精确的温度剖析。这种控制水平对于实现均匀的扩散剖面和最小化整个晶圆表面的过程变化至关重要。TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I单元的设计可以容纳广泛的加工气体和掺杂剂，使扩散过程的定制能够满足不同半导体器件应用的具体要求。该机具有先进的气体输送系统和质量流量控制器，以确保准确和可重现的气体流量，这对于实现一致的掺杂水平和设备性能至关重要。除扩散炉外，TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA-303I工具包括一系列附件和外围设备，以支持高效可靠的半导体制造工艺。这些附件可能包括用于晶片装卸的负载锁、用于自动晶片传输的晶片处理机器人以及用于实时工艺优化的过程监控系统。TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I资产的关键特性之一是其先进的过程控制能力。该模型配备了精密的控制算法和软件，能够对温度、气体流速、压力等关键工艺参数进行实时监控。这使操作员能够快速识别和纠正与所需工艺条件的偏差,从而确保设备性能一致且可重复。TEL ALPHA-303 I设备也是为易于使用和维护而设计的,它具有用户友好的界面,可为操作员提供对系统参数的直观控制。该单元配备了诊断工具和自我校准例程，以确保机器的最佳性能，并尽量减少由于维护或校准活动造成的停机时间。总体而言，ALPHA-303 I是一种多功能、高性能的扩散炉及辅助工具，满足现代半导体制造的严格要求。凭借其先进的技术、精确的工艺控制和可靠的性能,ALPHA-303I是生产具有卓越性能特性的高质量半导体器件的必要工具。
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