二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i #9213304 待售
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ID: 9213304
晶圆大小: 12"
优质的: 2006
Vertical diffusion furnace, 12"
Process: MTO
Power box
I/O
Heater chamber
Exhaust box
Main top cover
I/O Top cover
Back door
Loadport
Operation panel
(3) Parts boxes
Lot capability: 50
Process speed per unit time:
Wafer CHG, loading: 40
Process: 2H
Wafer DIS-CHG, un-loading: 40
Clock bandwidth: 60 Hz
Frequency: 60 Hz
Power supply:
208 V, 200 A, 3 Phase (Heater)
200 V, 40 A, Single phase (Controller)
2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i是为半导体制造工艺设计的最先进的扩散炉设备。该工具在先进半导体器件的生产中起着至关重要的作用，它促进掺杂材料扩散到硅片中以改变其电性能。TEL ALPHA-303I配备了先进的特性和功能,能够精确控制扩散过程,从而实现高质量和高性能的半导体器件。TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I的一个主要特点是它的高温能力，使它能够以非凡的精度和稳定性达到扩散过程所需的温度。该系统能够达到最高X摄氏度的温度，确保掺杂材料在整个晶片表面的有效和均匀扩散。这种精确的温度控制对于实现所制造的半导体器件所需的电气特性至关重要。除了温度控制能力外，Alpha 303i还配备了精密的气体输送装置，能够将掺杂气体精确引入工艺室。这种气体输送机可以精确控制掺杂气体的浓度和流量，确保硅片的掺杂均匀一致。该工具还配备了先进的监测和控制系统，使操作员能够实时监测和调整气流参数，确保最佳扩散结果。ALPHA-303 I具有水平晶片配置,允许同时处理多个晶片,从而提高半导体制造的吞吐量和效率。该资产还设计用于容纳各种尺寸的晶片，使其用途广泛，适应不同的生产要求。该模型的水平配置确保了热和掺杂气体在所有晶片上的均匀分布，从而产生一致和可靠的扩散结果。此外,ALPHA 303 I还配备了一系列安全功能,以确保操作员的保护和制造过程的完整性。该设备设计有全面的安全联锁和警报，以防止事故发生，并确保符合行业安全标准。此外,TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I还具有内置诊断和监控系统,可以及早发现任何问题或异常,减少停机时间并最大程度地降低晶圆损坏的风险。总体而言，TEL ALPHA 303 I扩散炉系统是一种先进可靠的半导体制造工艺工具。凭借其精确的温度控制、先进的气体输送装置、水平晶片配置和全面的安全特性,ALPHA-303I为半导体制造商提供了高效生产高质量、高性能设备所需的能力和控制。
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