二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i #9304085 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i是一种扩散炉及配件，可用于蚀刻和加工半导体晶片。它非常适合制造先进的集成电路、薄膜和其他半导体器件。可用于进行沉积、氧化、退火、离子植入和退火蚀刻过程。TEL ALPHA-303I是一种单晶片管式炉装设有双工程室的设备。它有一个主室和一个辅助室。主室用于在多种温度下进行氧化、沉积和其他半导体器件形成过程，并与晶片反应气体溷合物。辅助室用于进行离子植入、退火和蚀刻过程。TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I有一个专利单级晶片加载系统，可以让晶片快速轻松地放入炉中。它还配备了可编程的电机控制，可以精确控制沉积速率和均匀性。TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I是以过程控制的径向均匀性进行工程设计的，导致优越的过度使用性能。TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I的设计具有防止危险气体积聚的压力控制单元和调节氧气水平以确保最大安全的恒温阀等安全特性。此外，该炉还配备了嵌入式智能系统和先进的诊断系统，如TEL申请专利的Wymar Vision Machine，它检测各种工艺问题和警报操作员。TOKYO ELECTRON ALPHA 303i能够达到250°C至1200 °C的温度范围，并有一个能够一次处理多达七个晶圆的综合製程室。它还与许多用于半导体生产过程的辅助设备兼容，使其成为研究和批量制造的真正通用的解决方桉。总体而言，TEL ALPHA 303 I是一种先进的扩散炉和一套配件，受到许多领先的半导体制造商的信任和使用。它为生产先进集成电路、薄膜和其他半导体器件提供了经济高效、可靠且统一的解决方桉。