二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i #9379788 待售

TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i
ID: 9379788
晶圆大小: 12"
Furnace, 12" Poly, K Type.
TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303i是一种用于半导体加工的双室高温热真空扩散炉。它旨在提供精确的加工条件热控制,以确保薄膜和其他分子相互作用的均匀性。TEL ALPHA-303I具有两个可在不同温度下操作的独立源/排水室。每个腔室包含一个独立的加热系统,具有高温绝缘和精确的温度控制。炉的分布范围为40-1000 °C,均匀度± 5°C。加热区通过陶瓷管进入,并配有一系列配件,以进行更精确的控制。TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I还具有一个主动负载锁和一个保护性挡板阀,以保持氮气和其他气体在处理室内。真空系统能够在两个腔室达到小于133 mTorr的基压。此外,该炉还配备了气流控制器和真空/压力计,以便对工艺参数进行精确监测。使用GEMs原位过程控制软件,可以自动对薄膜沉积的加载和处理阶段进行排序。该软件还提供数据记录和用于过程控制的一组完整的命令。该炉用RS-232数字接口编制索引,以便通过个人计算机进行远程控制。TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA-303I还包括多种配件,如晶圆升降机、晶圆转换箱、船升降机和样品支架。这些附件可以有效地装卸物料。该炉还包括一个集成的氦气泄漏检测器和一个石墨隔热外壳,减少传热和能耗。最后,TEL Alpha 303i的设计符合所有相关的安全标准,并具有各种可视和可听的指示灯,以提醒操作员注意任何过程错误。该炉还设有气帘,在操作过程中保护操作员。这种先进的扩散炉非常适合用于半导体和其他需要精确温度处理的部件的研发和生产。TOKYO ELECTRON ALPHA-303I结合了坚固的结构、精确的温度控制、可调节的热区和全面的过程控制软件,提供了无与伦比的性能水平。
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