二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 805DN #293651972 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 805DN是一种高性能扩散炉系统，可用于半导体和MEMS器件的热处理。该炉配有低压氮化物工艺，适用于进行广泛的热工艺，如退火、吸气和活跃的大气工艺。其最高工作温度为1100 °C，使用可选腔室升级时具有1200 °C的最高温度能力。TEL Alpha 805DN能够在几秒钟的倾斜时间内,在短时间内达到高达1000 °C的温度。它还可以方便地接触基板，以便在安全和清洁的环境中操纵小零件。此外,该系统还提供出色的基板温度均匀性和低功耗.该炉由坚固的不锈钢室组成，带有高纯度石英窗和一组石英提升销。该室的门由可操作的不锈钢材料制成，可提供较长的使用寿命。提升销设计用于帮助将单个基板铺设到工艺晶片上并促进均匀加热,这有助于确保热过程中的结果一致。为了促进整个基板表面积的均匀温度，TOKYO ELECTRON ALPHA 805DN采用了高效的直接驱动阀。这提供了一种易于使用和可靠的机制，以始终如一地控制工艺参数并提供统一的结果。与其他传统炉子相比，它的设计目的是保持尽可能高的温度均匀性。Alpha 805DN还配有几个附件，包括用于高效清除不良气体的强大排气风扇、用于在过程中将晶片固定到位的晶片臂以及用于将气体引入腔室的高纯度二氧化碳入口模块。为了便于适当的气体流动，TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 805DN安装了一个预编程的大气控制器和一组压力控制阀。这些阀门允许对不同压力下的进气和废气进行精确和受控的规划。该系统还配备了使用寿命长的陶瓷绝缘材料，有助于确保适当的热效率以及快速的加热和冷却过程。总体而言,TEL Alpha 805DN是半导体制造应用的理想解决方桉。它具有优异的工艺性能、较高的均匀温度和较低的功耗，使这种高效炉成为满足热工艺需求的理想选择。