二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 81-ZA #9092855 待售
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ID: 9092855
晶圆大小: 8"
Furnace, 8"
Process capability: Pyro
Zones: 5
Process gases: N2, H2, O2, DCE
Controller model: TS4000
Accessories: Atmospheric system, loadsize, 100, VMU heater
CE mark: Yes.
TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 81-ZA是一种先进的扩散炉,是生产半导体晶片过程中使用的一套特殊配件。该扩散炉采用低压化学气相沉积技术,利用特制的腔室和加热元件将硅的变化引入晶片表面。Alpha 81-ZE由一个单室、一个加热元件、一个真空系统以及各种控制和电源组成。单室采用圆柱形设计,采用不锈钢制成,内衬特殊,防止污染。腔室由采用高频感应过程的感应式加热元件加热。这种感应式加热元件还具有600°C至1300°C的可调温度范围,用于精确控制扩散过程。TEL Alpha 81-ZA由真空系统操作,该系统控制不同气体的引入,这是扩散过程所必需的。真空系统还控制腔室的压力,必须保持在特定水平才能获得最佳结果。此外,还使用各种控制单元和电源根据需要密切监视和调整扩散过程。为保证质量输出,TOKYO ELECTRON ALPHA 81-ZA还设有各种安全措施。这包括温度传感器,压力传感器,以及超压和真空阀,以确保安全的条件。Alpha 81-ZA还包括冗余控制,以确保不断监控和控制扩散过程。作为额外的奖励,TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 81-ZA还提供了一套专门的配件,以增强和定制其性能。这些配件包括用于空气清洁、预防性维护、备件、制造工具以及测量和分析仪器的配件。这些附件中的每一个都确保TEL Alpha 81-ZA在其最佳级别发挥作用,并生产高质量的半导体晶片。综上所述,TOKYO ELECTRON Alpha 81-ZA是一种先进的扩散炉,是生产半导体晶片过程中使用的一套特殊配件。该扩散炉采用低压化学气相沉积(LPCVD)技术,并配有各种控制、电源、安全措施和专用配件。该炉及其提供的许多配件为半导体晶圆生产过程提供了有效可靠的解决方桉。
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