二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8S #9060551 待售

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图为 已使用的 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8S 待售
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已售出
扩散炉&配件
製造商
TEL / TOKYO ELECTRON
模型
Alpha 8S
ID: 9060551
晶圆大小: 8"
优质的: 1993
Nitride Furnace, 8" Interface cassette, 8" 100 wafer load size with 150 upgrade & end-effector available Facilities entry at bottom Wide body style Right sided Brooks 5964 MFCs MFC 1 - 20 slm N2 MFC 2 - 500 sccm N2 MFC 3 - 3 slm N2 MFC 4 - 100 sccm Ar MFC 5 - 2 slm NH3 MFC 6 - 500 sccm SiH2Cl2 Edwards QDP80 /QMB1200 Pump stack SOLA UPS NBest battery back up Heat traced exhaust line with system MKS heated throttle valve model 653B-13162 Main controller is TS 4000Z 1000 C heater core Lip seal: No Inner T / C8 Linear aligner UP/DOWN axis slide motions Single or 5 wafer loading Variable pitch: No Tube, external Nitride 07-00106 Tube, internal Nitride 07-00218 Injector #1 Nitride 12mm 07-00219 Injector #2 Nitride 45mm 07-0220 Injector #3 Nitride 500mm 07-00221 Cover, cap Nitride 07-0225 Pedestal, Nit / All / Ann 07-00227 Pedestal cover, Nit / Al / Ann 07-00227 Boat, Sic 07-00124-00 Process tube, 16" Rapid cooling 3 Phase Voltage: 208V 60 Hz SMIF loader: No N2 purged loadlock: No WIP Carrier storage capacity: 8 End-effector: 1 or 5 Fixed Pitch Boat rotation: Yes Furnace: Temperature controller: Model 120 (5) Zones Heater type: VMM-40-004 Rapid cooling configuration: Yes Tube seal configuration: O-ring Temperature control methodology: PID Thermocouple type: R Process gas control system: General External torch: No H2 Burn off: No Bubbler system: No Gas leak dectection: No Moisture sensor: No Process gases (LPCVD) MFC1 Model/type: BROOKS 5964 Process gases: N2 Flow rate: 20 SLM MFC2 Model/type: BROOKS 5964 Process gases: N2 Flow rate: 500 SCCM MFC3 Model/type: BROOKS 5964 Process gases: N2 Flow rate: 3 SLM MFC4 Model/type: BROOKS 5964 Process gases: Ar Flow rate: 100 SCCM MFC5 Model/type: BROOKS 5964 Process gases: NH3 Flow rate: 2 SLM MFC6 Model/type: BROOKS 5964 Process gases: SiH2Cl2 Flow rate: 500 SCCM MFM1 Model/type: BROOKS 5964 Process gases: SiH2Cl2 Flow rate: 500 SCCM Vacuum pump: EDWARDS Blower capacity: QMB1200 Dry pump capacity: QDP80 Pressure controller: Varian-TEL LR300 Process manometer: 10 Torr MKS 625A Pressure differential manometer: 1000 Torr MKS 625A Pump manometer: 100 Torr MKS 625A Inline coldtrap: yes 1993 vintage.
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TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 8S是一种高性能扩散炉及配件，旨在使半导体晶片、薄膜器件、MEMS、光电等此类电子器件得到精确处理。利用TEL ALPHA-8S,即使是最先进的制造工艺也可以实现卓越的精确度和高通量。TOKYO ELECTRON ALPHA 8 S配备了一个紧凑的真空室，容积达95升，以及一个六段石英室衬里，具有超强的温度均匀性。这种设计可以快速精确地控制高达1400 °C的温度，温度均匀度± 1.2°C。此外，其强制风冷加热器设备旨在保持和优化长期使用的性能。Alpha 8S配备了高精度气体分配系统，该系统能够提供多种气体，包括氙气、氦气、氮气和氧气，以及氢气和氘气等反应性气体。这种气体输送装置对于大多数扩散过程至关重要，因为它确保所有气体一致和可靠地输送到目标区域。TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 8 S还配备了多种高级功能，旨在确保安全性和可靠性。这些特点包括一个臭氧监测仪，用于检测炉子中任何位置的臭氧浓度，高速压力控制，以及一个防止温度过高损害的高速过电流监测机，以及一个用于监测和控制加热室温度的红外加热器温度传感器。TEL ALPHA-8 S是为在洁净室环境中可靠操作而设计的,其特点包括防止工序室受到污染的保护外壳,以及用于检测打开/关闭门窗的光学监控工具。最后，TOKYO ELECTRON ALPHA-8S配备了数据记录资产，能够记录温度、压力、工艺时间和其他关键工艺参数。可以远程访问此数据,并将其保存在PC文件中以供以后分析。综上所述，TOKYO ELECTRON ALPHA 8S是一种先进的扩散炉及配件，设计用于各种半导体和电子器件类型的精密处理。TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA-8 S具有紧凑的真空室、温度均匀性、高精度气体输送模型和先进的安全特性,非常适合高性能的制造工艺。
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