二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8S #9245683 待售
看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。
单击可缩放
已售出
ID: 9245683
优质的: 2000
Furnace
Layout type: U/Box type (L)
System hand: LL
N2 Load lock
Heater type: WMM-40-101 Mid temperature
Torch heater
TEL Integrated SMIF
Process gasses:
Gas 1: N2 (20 SLM)
Gas 2: N2 (5 SLM)
Gas 3: N2 (1 SLM)
Gas 4: NH3 (2 SLM)
Gas 5: DCS (200 SCCM)
Gas 6: O2 (2 SLM)
Gas distribution system:
Basic style: Conventional gas system
Tubing material: Stainless system
Electro-polished tube
FUJIKIN Manual valve
FUJIKIN Air operated valve
MFC: AERA
Wafer / Cassette handling:
Wafer type: 8" Semi STD-Notch
Cassette type: ENTEGRIS / XT200-01E
(25) Cassette wafers
(16) Cassette storage
1+4 Fork type / Material
Fork variable pitch
Boat / Pedestal:
(150) Production wafers
Boat rotation
System controller: TS-4000Z
Signal tower
General pressure display unit: Pressure Mpa
Cabinet exhaust display unit: Kpa
Furnace temperature controller: M121
Power supply:
Voltage:
208 VAC at 3 Phase
120 VAC at 1 Phase
UPS Input / Output voltage: 120 V / 100 V
2000 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 8S扩散炉是一种用于半导体制造的最先进的工具。具有广泛的特点，提供了先进的温度均匀性和均匀性，允许精确的半导体处理。TEL ALPHA-8S可以LPCVD（低压化学气相沉积）或RPCVD（快速压力化学气相沉积）模式运行。在LPCVD模式下,晶片的均匀度±为0.5°C,可提供出色的重复性和低温梯度。在RPCVD模式下，晶片的均匀度±为0.2°C，提供更精确的控制。TOKYO ELECTRON ALPHA 8 S还具有从150°C到1050°C的大范围温度，允许多种过程。除了均匀性，ALPHA-8 S还提供快速的温度斜坡时间。它的热墙设计为快速加热和冷却提供了大型对流单元，允许快速的处理速度。Alpha 8S可以在不到60秒的时间内达到目标温度，无需手动冷却腔室。TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 8 S也提供多种配件，方便半导体製造。这些包括高压或低压气体歧管系统、石英压力室、LPCVD反应罐和石英消声器系统，以避免与热表面接触。ALPHA 8 S也有气密的进料通量，用于将反应物气体引入系统。这使得反应速率高达55ccmand压力高达10 bar。TEL Alpha 8S还配备了自动晶圆处理系统，以加快装卸过程。该系统由一个机械臂和一个预先自动化的手组成，用于晶圆的简单和可重复的装卸。TOKYO ELECTRON ALPHA 8S是精密高效半导体加工的理想工具。它提供了极好的温度均匀性和均匀性以及快速的温度倾斜时间，并为可靠和受控的半导体制造提供了可靠的配件选择。
还没有评论