二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8SE-Z #9395874 待售
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ID: 9395874
晶圆大小: 8"
优质的: 2001
CVD Furnace, 8"
Process: Co-SiN Low pressure CVD
Wafer shape: Notch
Wafer cassette: Plastic miraial, 8"
SMIF Interface
Cassette I/O Port / SMIF
Cassette transfer
(12) Cassette stockers
(9) Cassette stockers: I/O Side
Boat elevator: Cap rotation
Wafer transfer: 1 + 4 Pitch conversion
Pass box transfer stage
Auto shutter: Full close
Furnace body:
Heater chamber: VMM-40-101, 500 - 1000℃
Furnace stand: N2 L/L
Water cooling piping
Scavenger
Cable duct
Gas system:
Gas unit: SiN
Vacuum piping
Temperature controller unit
Analyzer unit: N2 L / L O2 Thermometer
N2 Purge box: Half size F/Box
MFC:
FC-786Y-B-TC: N2 20SLM
FC-786Y-B-TC: N2 5SLM
FC-786Y-B-TC: N2 1SLM
FC-985Y-B1: NH3 2SLM
FC-985Y-B1: SiH2Cl2, 200SCCM
SEC-7340RC-204-4CR: N2 10SLM
PCV-1000-3C
FC-772C-6V: N2 200SLM
MFM: FM-865-B1-TC: SiH2Cl2 200SCCM
FM:
FM1/2: P-821-4A-6F-V2-M-N2-30L-2M
FM3: P-821-30-6F-V2-M-N2-10L-K1.0
P-510-LO-6N-S3-N2-200L
P-510-LO-6N-S3-N2-100L
P-823-40-6F-S2-S-N2-60L-SP
Control system:
WAVES
M560 Temperature controller
Gas flow chart panel with remote
Man machine interface with remote
Signal tower
2001 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 8SE-Z是一种用于各种半导体制造工艺的扩散炉及配件。这种扩散炉是一种全自动的高温燃气炉，设计用于提供精确的温度控制和均匀性。先进的热结构在整个加热区提供均匀的温度分布，达到均匀精确的效果。TEL ALPHA 8SEZ的温度范围在300°C至1350°C之间,最高温度变化± 4.°C。该炉设计用于在半导体基板的整个垂直切片上借助一系列加热元件进行均匀加热。该炉配备了创新的热力设计、高性能的供气设备、先进的控制系统、量身定制的周边设备等几个特点。这些特性有助于熔炉的高工艺吞吐量和可重复性。气体供应装置的设计是为了提供优化的气体溷合和减少由于气体成分的快速变化对加热元件的热冲击。这使得TOKYO ELECTRON ALPHA-8SE-Z从退火到扩散的各种热过程的理想选择。先进的控制机器允许在加热阶段和冷却阶段之间同步进行精确的温度控制。控制工具还可以针对用户的特定需求进行定制，如自动过程调整和配方优化。量身定制的外围设备使炉子能够快速、方便地融入现有生产线。除了出色的散热性能外，Alpha 8SE-Z还设计了多种内置安全系统和防爆结构，以满足安全标准。它还配备了整体法拉第笼、电阻测量单元（RMU）和磁芯传感器（MSC），以保护微芯片免受外部磁性干扰。总体而言，TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 8 SE Z是业界领先的扩散炉，旨在为各种半导体工艺提供精确的温度控制和均匀性。ALPHA-8SE-Z具有高性能、安全标准和整体配件，是任何寻找可靠扩散炉产品的半导体制造工厂的绝佳选择。
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