二手 TEL / TOKYO ELECTRON APT-2800 #9280808 待售

TEL / TOKYO ELECTRON APT-2800
ID: 9280808
Atmospheric pressure chemical vapor deposition furnace.
TEL/TOKYO ELECTRON APT-2800是一种扩散炉和附件封装,主要用于半导体制造过程,用于半导体晶片上薄膜的沉积和/或掺杂分离。它具有石英室结构,内置晶圆加热器,高效的消声器设计,以及用于精确控制温度的直接数字过程控制器。包装是为容纳两个晶圆船在其内部,并结合了创新的气体设备,以确保均匀的薄膜质量。TEL APT-2800利用电热平衡开环控制系统,确保扩散室的温度控制准确,使加热和冷却过程快速高效地进行。装入封装的晶圆加热器的可调范围从300摄氏度到1500摄氏度,加热均匀性使相邻晶圆的温差保持在±摄氏度以下。消声器提供层流气体,以确保通过其100-180 mL/min的可调风量在晶片上均匀扩散。一个配置有TEL和JEOL单元包的单一控制面板被整合到单元中,为用户提供准确的实际时间温度控制。控制面板还有八种预置的薄膜沉积工艺配方,以确保过程的统一控制。TOKYO ELECTRON APT-2800中创新的气体机器不仅有利于薄膜在晶片上的精确沉积,而且有助于减少沉积废物量。其400缸储气量能容纳高达500 sccm的气体用于沉积过程,其快速响应气流调节功能为用户提供了完整的过程控制。APT-2800的设计考虑了用户的安全,并且在包装中集成了多种内置安全功能。这些功能包括机载材料传感器、电子温度监视器、Level One警报以及用于防止资产故障的自动断电工具。综上所述,TEL/TOKYO ELECTRON APT-2800是一种先进的扩散炉和附件包装,旨在满足半导体制造工艺的需要,同时为用户提供易于使用和安全的氛围。封装配有精确的电热平衡控制模型、高效的消声器风扇,以及用于均匀膜沉积过程的创新气体设备。它还设计了一系列安全功能,以确保其用户的安全。
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