二手 TEL / TOKYO ELECTRON FORMULA High-K #9290897 待售

TEL/TOKYO ELECTRON FORMUM HIGH-K是来自TEL的扩散炉及相关配件设备，提供高密度、高性能的扩散过程。TEL FORMULA High-K系统是半导体器件处理的理想选择，提供卓越的均匀性、精度和可重复性。利用详细的过程控制，TOKYO ELECTRON FORMUM HIGH-K针对特定的器件处理应用，如退火、结、活化和横向氧化。对于热或快速热退火（RTA）应用,FORMULA High-K提供了卓越的均匀性和稳定性。在温度范围广、温度控制精确的情况下,晶圆/高K的温度可以有效地进行,部分之间的偏差很小,高K的"紧环路控制"（TLC）特征是将闭环PID（比例积分导数）控制和闭环电阻控制结合起来实现的。该控制算法允许对短过程和长过程进行精确的温度控制，从而实现了广泛的热过程参数。TEL/TOKYO ELECTRON FORMULA HIGH-K还具有直接驱动气体注入单元，消除了差压、质量流和电机速度之间的潜在误差。这种直接驱动机器还提供了一个坚固和干净的排气工具。直接驱动注入资产减少了由于维护造成的停机时间，提高了流程的统一性。排气模型利用扩散器最大限度地提高效率，在整个晶片区域提供均匀的气体分布，即使在高压水平下也是如此。TEL FORMULA High-K提供多种配件，以满足特定的设备处理需求。该设备配有各种类型的冷却器和加热器，以实现高效的热控制和工艺均匀性，以及可调节温度和流量的内部电闸。此外，门阀、氧化热敏电阻和压力/流量控制器等配套工具为现代设备处理提供了全面的解决方桉。简而言之，TOKYO ELECTRON FORMULA High-K能够从头到尾严格控制扩散过程。该系统支持半导体的高密度、高性能扩散处理,提供一系列理想的功能,如精确的温度控制、直接驱动气体喷射和坚固的排气装置。此外,各种可选附件还为特定的设备处理需求提供了额外的控制和精度,从而确保了设备制造的最佳效果。