二手 TEL / TOKYO ELECTRON Indy Plus-B-MVCKNNRRTXI #9381820 待售

TEL / TOKYO ELECTRON Indy Plus-B-MVCKNNRRTXI
ID: 9381820
晶圆大小: 12"
优质的: 2011
Furnace, 12" Process: HfSiOx Heater type: VMM-56-201 Low temp (4) Zones: 150°C~600°C Gas: N2 Ar O3 3-DMASi (Liquid) H2O and TDMAH (Source tank) (2) Boat systems KAWASAKI Hard Disk Drive (HDD) 2011 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Indy Plus-B-MVCKNNRRTXI是一种配有附件组件的扩散炉,使其在提供专业级热处理环境的职责上高效可靠。该系统可以处理各种适当额定的材料,包括用于各种电子和集成电路应用的晶片。夹具由一个真空室组成,在该真空室中进行该过程,同时还有进料通路、温度传感器、气候控制组件和控制装置。Indy Plus-B是一种垂直式扩散炉,能够提供500至1250°C的温度,最大运行压力为0.5至10 torr。机组的闪光循环时间为15秒,抽水循环时间不到1小时。这允许在压力或温度升高变化的情况下进行连续流动过程。腔室直径315mm,高度1100mm,最大晶圆载荷为6"。它能够提供各种类型的氧化、氮化、退火和扩散过程。此外,该装置还包括一个Oxid面罩、淋浴头和一个十八升程温度控制装置,以保证加工温度的均匀性。该装置还采用了"脉冲数字退火"工艺,在低温和高温之间交替进行,每个循环都允许更快的温度变化和稳定的热环境。这一特点得益于外部加热元件的使用以及扩散室的直接转移加热技术及其统一的温度控制能力。在此设置中,低温和高温周期会自动交替出现,从而产生比同类模型更快的过程周期。该单元还配备了一系列安全功能。这包括自动底部互锁、过温度关闭和气流中断自动关闭,通过一系列参数确保安全。该单元还包含一个双旋转真空阀,以便在装卸晶片时提高效率,以及一个用于提高耐用性的热壁陶瓷室。TEL Indy Plus-B-MVCKNNRRTXI是一种高效可靠的工业化扩散炉,配备了耐用的部件、安全特性和适应性的温度控制能力。它是氧化、氮化、退火、扩散等多种过程的理想选择,在其腔室中可容纳多达6英寸的晶片。凭借其先进的设计和15秒的闪光循环时间,这种扩散炉是现代电子集成电路应用的绝佳选择。
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