二手 TEL / TOKYO ELECTRON Indy Plus-B-MVCKNNRRTXI #9381828 待售
网址复制成功!
单击可缩放
ID: 9381828
晶圆大小: 12"
优质的: 2012
Furnace, 12"
Process: HFSiOX
Type: LPCVD
Rapid cooling unit
Pump box
VMM-56-201 Heater
FUJIKIN Air valve
MFC, MFM: AERA
MAIN / APC: CKD
Load lock system
Display: GFC
(2) Boat systems KAWASAKI
Heater type:
VMM-56-201 Low temp
(4) Zones: 150°C~600°C
Furnace subsystem:
Automation system
Heater
Process chamber
Temperature controller
Scavenger
Cooling water unit
Gas subsystem:
Gas supply unit
Exhaust
Vacuum line
Gas:
N2
PN2
Ar
O3
3-DMASi (Liquid)
H2O and TDMAH (Source tank)
Missing parts:
QUARTZ Wares
(2) Hard Disk Drives (HDD)
Manifold
Power supply: 3 Phase, AC 480 V, Single phase, AC 120 V
2012 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Indy Plus-B-MVCKNNRRTXI是一种为高效加工半导体基板而设计的扩散炉。该炉允许用户为特定过程编程自定义扩散配方。它具有方便的低成本MVCKNNRRTXI电源,可提供高达25安培的功率。设备还提供了从325°C到1050°C的精确可调温度范围。该系统配有敏感的热传感器,用于监测和控制所有与温度相关的过程。该腔室的设计是为了有效地将热量散发到外部环境,以便有效地操作。TEL Indy Plus-B-MVCKNNRRTXI还配备了先进的炉子控制软件和先进的工艺控制功能。这包括室内温度的动态编程、配方选择和储存、自动预调制、闭环温度控制以及控制分离通道和链接通道的能力。该设备还具有远程自我诊断功能以及可编程警报功能。TOKYO ELECTRON Indy Plus-B-MVCKNNRRTXI专为高温气体和化学气相沉积(CVD)工艺而设计,提供优异的工艺均匀性和高度的工艺控制。它旨在减少反应扩散损失,提高底物温度均匀性。该工艺室具有高精度的多区加热特性,用户可以准确控制工艺温度。Indy Plus-B-MVCKNNRRTXI还具有自动化的载荷锁门,能够快速装卸腔室。真空密封装置可防止任何外部污染物在扩散过程中进入腔室。该室还装有石英晶片吊舱,可对其进行编程,以提供精确的温度循环和精确的气流定时,从而在基板上形成均匀的薄膜厚度和密度。TEL/TOKYO ELECTRON Indy Plus-B-MVCKNNRRTXI还包括多个用于高级操作和保护的配件。它包括可进行单文件处理的装载盒式磁带,以及可与加工气体集成的气体歧管机,确保反应物在室内均匀均匀地溷合。此外,该工具还配备了一个机械安全关闭阀和一个手指安全清洗机构,以防止在操作过程中意外释放工艺气体。TEL Indy Plus-B-MVCKNNRRTXI扩散炉是一种易于使用、可靠且具有成本效益的资产,能够为各种工艺产生统一和一致的结果。特征和附件的结合,加上其先进的控制模型,使其成为所有扩散和沉积过程的理想选择。
还没有评论