二手 TEL / TOKYO ELECTRON TELFORMULA 1-H #9206531 待售
看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。
单击可缩放
已售出
TEL/TOKYO ELECTRON TELFORMULA 1-H是微加工公司TEL(TOKYO ELECTRON)的扩散炉及配件。这是一款先进的生产规模高性能热处理工具,非常适合快速热处理、扩散退火和氧化过程等应用。其特点包括针对恶劣的加工条件、大晶圆容量的坚固设计 (最多4英寸方形框架和8英寸圆形框架)、提高晶圆均匀性的水平流动能力、用于提高工艺吞吐量的低压和高温处理能力、用于快速经济的晶圆观测的石英窗口以及通过PC连接接口收集和分析工艺的数据 (PCCI),使其成为一种高度灵活可靠的半导体加工炉。炉体由高级不锈钢构成,设计目的不仅是防止温度过低,而且还通过保持整个晶片的均匀温度分布,在快速热处理(RTP)任务中提供帮助。其氧化的温度范围(700 °C至850 °C)和快速热处理(800 °C至1600 °C)对于先进的微加工特别有用。此外,控制处理器控制气体流量、热速和晶圆冷却有一个可调的算法来提高均匀性。TEL TELFORFORMULA 1-H的另一个主要特点是其基于比例的加热和冷却系统,它通过控制热和冷却速率来提高吞吐量。最重要的是,该炉配有一个氧化物均匀性监控器(OUM),一个控制器,用于监控室内每个晶片的氧化物厚度。它能够评估基板水平的均匀性,使用户能够在晶圆仍在腔内时调整工艺参数。最后,TOKYO ELECTRON TELFORMULA 1-H附有石英窗,为取样和观测晶圆提供了一个方便的视图。由于石英具有很高的耐温性和化学惰性,因此也可用于高温和氧化过程。TELFORFORMULA 1-H是任何半导体工艺的完美工具。凭借其坚固的设计、大晶圆容量和基于比例的加热和冷却系统,这是当今市场上最可靠、能力最强的扩散炉之一。
还没有评论