二手 TEL / TOKYO ELECTRON UL 2604-08L #9395933 待售

ID: 9395933
晶圆大小: 6"
Horizontal diffusion furnace, 6" (4) Heater process tubes Tube gas: N2, O2, H2 UPS Missing Power supply: 200 V, 173 kVA, 3 Phase.
TEL/TOKYO ELECTRON UL 2604-08L是一种用于半导体加工的扩散炉及配件。它是一种水平热壁式扩散炉,设计用于在单个腔室中同时处理P型和N型半导体基板。这种扩散炉用于半导体器件制造的高纯度薄膜,如硅和砷化铵。TEL UL 2604-08L具有由不锈钢雾化设备制成的超高真空(UHV)腔室,可提供出色的热稳定性并确保腔室内气体的均匀分布。腔室内部还装有加热器和温度控制器,用于准确控制整个表面的温度。它设计用于加工宽度不超过200 mm的基板,如果基板尺寸低于140 mm,可在温度不超过800 °C、最高温度不超过1100 °C的情况下运行。此外,加热器还具有多区域温度控制功能,可在整个腔室内均匀加热。TOKYO ELECTRON UL 2604-08L还通过其双驱动电机系统提供了更高的电机扭矩和更长的使用寿命。它还能够对基板进行高级热处理,如氧化、氮化和其他适合传递超低频(ULF)信号以及高频耦合的工艺。UL 2604-08L具有安全功能,如紧急停止按钮和自动安全装置。机器还包括一个电源监控工具,用于监控功耗,如果功耗超过预设水平,将关闭资产。而且,该车型还配备了防止气体泄漏的自动清洗设备。其排气系统有内置过滤器,可减少有害气体的逸出。总体而言,TEL/TOKYO ELECTRON UL 2604-08L扩散炉及附件是加工半导体器件的理想选择。它结合了卓越的工程技术和先进的技术,确保了可靠和高质量的产品。这种扩散炉可以让用户实现精确的温度控制和出色的均匀性,使其成为半导体生产规模加工的理想选择。
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