二手 TEL / TOKYO ELECTRON VCF-615S #141288 待售

TEL/TOKYO ELECTRON VCF-615S是一种单区垂直管式扩散炉，适合通过热氧化扩散在高温半导体基板上造层。它采用阳极氧化铝制腔室，能够处理高达1000 °C的温度和高达600 Torr的压力。该设备还配备了TEL先进、高效的自动绝缘设备，旨在最大程度地减少热电阻率和热量损失。该模型的另一个特点是高速加热系统，能够在不到一小时的时间内创建厚度高达8000埃的层。TEL VCF-615S扩散炉包含一个用于加工基板的主室、一个用于主室的冷却机构和一个用于阳极棒的冷却机构。主室为垂直不锈钢扩散管，直径6英寸，高度24英寸。高温炉由直流加热器加热，并加入阳极棒使加热速率和温度均匀。受热氢引入主室，通过改变受热氢的流动来控制温度。TOKYO ELECTRON VCF 615S扩散炉有多种配件，包括温度监测装置和压力计和压力表等更高的压力控制装置。温度监测机允许随时精确的温度读数,而较高的压力控制附件则允许用户同时控制温度和压力,从而实现准确的沉积速率。除了这些特性外，VCF 615S扩散炉还设计了一个额外的安全特性，可以防止压力过低时主室内的氧化。这是通过将氮引入室内并使用压力计监测压力来实现的。这种扩散炉可用于硅片氧化、晶体生长、缺陷还原、源漏药工艺等多种过程。VCF-615S扩散炉是在半导体基板上创建高质量层的高效可靠的工具。该型号的多功能性及其高速加热工具使其成为各种应用的理想选择。此外,安全特性、温度监控资产和压力控制附件使该模型成为创建具有严格公差和准确结果的层的安全有效的选择。