二手 THERMCO 5200 #9076495 待售
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ID: 9076495
晶圆大小: 6"
优质的: 1995
Diffusion furnace / LPCVD, 6"
(2) Tubes: Gate oxide
(1) Tube: Oxide
(1) Tube: poly LPCVD
Four tubes with semi-auto boat loader
Laminar flow and gas cabinet
High temperature element with 40’’ flat zone
Tube1: Poly (SiH4,N2O HCL,N2)
Tube2: Poly (SiH4,N2O HCL,N2)
Tube3: Poly (SiH4,N2O HCL,N2)
Tube4: Poly (SiH4,N2O HCL,N2)
1995 vintage.
THERMCO 5200扩散炉是一种提供半导体基板热处理的强大而可靠的解决方桉。这种批处理型炉专门设计用于掺杂、氮化、氧化、热氧化、退火等热处理。该炉包括驱动系统、温度控制器和加热元件。该炉的最高温度为1200 °C,可运行至200毫巴的压力。它提供了一个令人印象深刻的加热和冷却速度与均匀的温度分布在基板区域。炉体结构采用高品位耐热材料设计,外壳采用环氧涂层钢制成,即使在高温、高压暴露下也能生存。耐高温绝缘材料以及室门和其他硬件上的阳极氧化铝制密封件可确保最大的保温性和安全性。加热元件由石墨和钼/钨合金包装物制成,保证了均匀性和强度。5200的真空系统由旋转真空泵和带有预真空泵的扩散泵组成。旋转真空泵将腔室从大气压力下排到1毫巴。真空泵将腔室从大气压排到20毫巴。扩散泵将腔室从20 mbar下排到10-8 mbar,而吸气泵即使在腔室关闭时也保持真空,先进的炉子控制系统确保了精确的温度控制,并设计有液晶屏和各批处理过程的可编程控制。THERMCO 5200提供了一系列附件,用于特定于用户处理需求的定制操作。其中包括石英片、手动和自动装载平台、惰性气流控制系统、温度传感器以及各种保护选项。它还配有触摸面板控制器,允许在处理周期内进行免提腔室控制和监控。综上所述,5200扩散炉是基材热处理的可靠解决方桉。其设计允许温度分布均匀,温度控制精度高,而腔门等硬件则保证最大保温。它适用于广泛的热处理操作,其配置可以根据用户的具体需求量身定制。
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