二手 TP SOLAR MD 246 #9279732 待售
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ID: 9279732
优质的: 2018
Fast firing IR furnace
Specifications:
Wafer transfer height (mm): 955 ± 35
No of lanes and pitch (mm): 2 Lanes @250 pitch (centre to lane centre), single tunnel
Wafer sizes, mono and multi crystalline (mm): MO (156 x 156), M2 (156.75 x 156.75)
Easily modified for M4 (161.7 x 161.7mm) by belt change
Belt speed range (mm/s): 50 to 170 preferred, 50 to 145 acceptable
Belt speed accuracy (%): ± 0.75
Belt type: Edge contact, NiCr Steel mesh
Wafer repeatability on belt start position to end position (mm): ± 4
Wafer breakage rate (%): 0.05 (~2.8 broken wafers per hour @ 125k wafers per day)
Roller diameter, entry / Exit (mm): 152 / 49 (excluding belt)
Feed direction: Left to right
Length (metres): 9.4 ± 0.1
Height furnace (metres): < 1.7
Height VOC oxidiser (metres): < 1.95
Weight per section (Kgs): Drying (6 legs) < 2100, firing (6 legs) < 1425, cooling (6 legs) < 1250
Functional:
Up time (%): > 98.5
Wafer to wafer temperature uniformity under full load (C): ± 5 (S 250 mm lane pitch and 180 mm pitch within each lane
VOC Oxidiser efficiency (%): > 98%
Wafer exit temperature: < 55°C
Throughput (Mean wafers/hour): > 5600 @ 180 mm wafer pitch
Maximum temperature firing: 1000°C
Maximum temperature drying: 400°C
MTBA (Minutes): > 20
MTTA (Minutes): < 0.5
MTBF (Hours): > 7700
MTTR (Minutes): s30
Power supply: 50/60 Hz, 380-480 VAC, 3 Phase
2018 vintage.
TP SOLAR MD 246是由LPE Equipment Incorporated设计制造的质量扩散炉。随着先进的设计，扩散炉具有最高质量的结构，以尽量减少热量损失，以及安全和易用性。该装置结构坚固，用途广泛，可容纳大小晶片。扩散炉还配有一系列配件，进一步提高了性能和效率。MD 246利用高温真空扩散技术在晶片上沉积精密层薄膜。这允许用户以高度可重复的方式将金属、氧化物、氮化物、氟化物和多硅等一系列薄膜中的任何一种沉积在基板上。这种高温扩散技术确保了最高水平的可重复性，并允许精确控制薄膜层的尺寸。为了支持这些功能,TP SOLAR MD 246附带了一系列附件。其中最重要的是冷却线圈，它是专门为尽量减少热量损失而设计的。线圈的设计允许晶片均匀冷却，并确保最高水平的可重复性。扩散炉还配有波纹管以确保安全配合，真空软管在真空环境下使用时允许密封。此外，该装置还装有热电偶，可在扩散室中精确读取温度。除了必备配件外，该单元还附带了一系列可选配件。其中包括加热器、蒸发器和冷却器，每一个都为扩散室增加了进一步的多功能性。再者，该单元还附带了允许从PC完全控制该单元的软件，允许用户在扩散过程中监视和控制温度和其他变量。总体而言，MD 246是一个极好的扩散炉，提供了一系列的特点。凭借其坚固的结构、高温真空扩散技术以及一系列配件，该装置确保了最高水平的可重复性和准确性，同时提供了安全性和易用性。
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