二手 ULVAC H6350 LH / RH #9409629 待售

ULVAC H6350 LH/RH是专门设计用于制造半导体器件的扩散炉和配件。它配备了上、下双热壁炉，提供了高度的精度、精度和可重复性。该炉能够达到1000 °C的最高温度，工艺温度范围为100 °C至900 °C，有效量为475升。LH/RH扩散设备的设计是为了提供一个紧密、均匀、低发射率、最低系统温度波动的加热器环境。该炉由全金属开放式模块化设计组成，使用户能够方便地监测、配置和检查设备。供电、供气线路、数据线等工艺部件完全集成连接，保证了安全均匀的扩散涂层工艺。该炉温度控制范围大，为+/-50°C，可由内置微处理器精确监控，获得更精确的结果。该机设计有独立的热墙加热器和保护反射器绝缘顶部表面。这款加热器按照所有安全标准设计，制造质量最高。H6350 LH/RH非常适合用于制造包括芯片和晶片模具在内的半导体器件,并配备了产品的自动化装卸。它还与多种工艺气体兼容，并配备了375 W/cm2的典型装载率。ULVAC H6350 LH/RH扩散炉及其附件配备了数字逻辑控制器和真空压力容器,为方便和生产输出提供了可靠和自动化的真空工具。多路复用数字点火设备利用逻辑材料和自动压力控制,实现最大效率.LH/RH扩散炉及其附件除了具有可靠和可重复H6350性能外，还采用直观、高效的控制模型设计，以增强对过程的控制。直观的用户界面允许轻松配置和访问操作数据。中央流程控制器允许对流程参数进行有效的监控和跟踪，为用户提供安全有效的生产流程。