二手 ULVAC V10-100LC #9373107 待售

製造商
ULVAC
模型
V10-100LC
ID: 9373107
晶圆大小: 6"
优质的: 2003
Vertical furnace, 6" Process: HTO / Nitride Gases: N2, SiH2Cl2, N2O, NH3, SiH4 2003 vintage.
ULVAC V10-100LC是一种用于半导体制造的扩散炉及其附件。它是一种通常在实验室中用来将化合物或掺杂剂引入半导体表面以改变其性质的工具。V10-100LC专为低压化学气相沉积(LPCVD)工艺而设计。这是一个用气相反应在材料表面沉积薄膜的过程。ULVAC V10-100LC是一种水平、单晶片隐身扩散炉,可处理大体积均匀性需求。它以计算机控制的精度对温度和大气进行精确控制。它还产生高吞吐量、均匀性、极好的可重复性,并且可以在闭环或开环模式下操作,以确保粒子的低生成。V10-100LC的主要部件是装有晶片的石英船和真空室。它配备了一系列安全特性和温度敏感元件,以防止任何不必要的热变化。该系统还包括一个强大的加热元件和控制器,允许精确的温度控制与一个理想的均匀性整个腔室。它还具有半自动热控制功能,可针对压力、温度、时间等各种工艺参数进行调节。ULVAC V10-100LC还具有多种高级设计功能。其中包括多点传感器、实时过程控制、多配方功能以及高级用户界面,以确保易于使用的环境。V10-100LC设计具有高度的灵活性,以适应各种工艺要求。ULVAC V10-100LC是一个可靠、高效、易于使用的系统,它为掺杂剂在半导体表面上的扩散提供了卓越的性能。它产生了非常精确的结果,为制造半导体器件的广泛应用提供了出色的均匀性和可重复性。
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