二手 RUDOLPH FE VII #293830957 待售
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ID: 293830957
优质的: 1999
Thickness measurement system
Process capability: 11 µm, 13 µm, 15 µm, 18 um, 25 µm, 35 µm
Light source:
HeNe laser: 632.8 nm
Laser diode: 780 nm
Spot size:
Test site: 12x24 µm
De-skew: 125 µm
Site by site: 50 µm
Pattern recognition:
Optional pattern recognition
Edge / gray scale detection
Manual / auto de-skew
Reteach
Wafer handling:
3-Axis robots
(3) cassettes: 100mm to 200mm
Pre-aligner:
Virtual flat / notch finder
X, Y Centering: ±50 μm
Theta: ±0.1°
De-skew: ±5 μm
Stage:
Accuracy: 7 μm over 200mm
Repeatability: ±1 µm
1996 vintage.
RUDOLPH FE VII是一种现代椭圆偏光计，旨在测量薄膜和多层堆栈的光学特性。它是薄膜表征、生产控制、太阳能电池研究和质量控制以及薄膜沉积研发的通用工具。RUDOLPH FEVII配备了包括光头和高精度XY级在内的高分辨率成像系统。结合明亮的LED光源，可以测量任何入射角的薄膜特性。薄膜特性直接从椭圆偏振仪收集的数据中得到。FE-VII使用独特的单源双检测器方法，以两个不同的入射角同时测量在样品表面反射的光的强度。利用这种方法可以很容易地确定样品的折射率、厚度和光学常数。椭圆偏光计还提供了广泛的应用，如薄膜和大面积表征、太阳能电池分析和晶圆级光学测量。FEVII可用于多种薄膜材料，波长范围从可见到远红外（NIR-NIR）。薄膜厚度范围为0至5000nm，分辨率低至0.1nm。此外，还可以对薄膜和多层堆栈的各种复杂光学系数进行测量。除了创新的单源双探测器设计外，FE VII还具有温度控制的XY级，使得温度相关测量成为可能。光学装置补偿了热漂移等环境影响，最大限度地减少了样品错位的影响。RUDOLPH FE-VII是研究和开发高精确度生产工艺或对具有薄膜层的光电器件进行质量控制和诊断的完美工具。它是用于测量光学常数和薄膜特性的用户友好且准确的解决方桉。
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