二手 ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER A601E #293633801 待售
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ID: 293633801
Deep Reactive Ion Etcher (DRIE)
4" wafer chuck with LN2 cooling capability and helium wafer backpressure
Process gas setup: He, SF6, C4F8, O2, Ar, CHF3
Bay Voltex water chiller
(2) Alcatel roughing pumps
2021SD for loading chamber
2063 C2 for process chamber
Known issues:
LF5 RF power generator will not apply power.
ALCATEL/ADIXEN/PFEIFFER A601E是一种蚀刻器/asher,用于快速蚀刻和清洁沉积表面。这个工具在沉积过程中特别有用，例如物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）。ADIXEN A601E在单个集成平台中提供了高压蚀刻、预清洁和后清洁功能的独特组合。ALCATEL A601E由一个主蚀刻室和其他几个组件组成，包括真空处理室、基板转移和转移组件、基底蚀刻室、蚀刻压力监测仪和后蚀刻室。主蚀刻室容纳基板安装件、加工室等部件。工艺室通常是封闭的，由内室和外室组成，容纳惰性的工艺气体、加热的等离子体以及接地和/或磁耦合的体罩。靠近顶部的气体分散器可以允许在内部切换过程气体。基板传递和传递元件包括一个基板穿梭器，该穿梭器与工艺室相连。这可用于运输基材或基材件往返PFEIFFER A601E；基板的转移可以使用遥控或手动控制。基底蚀刻室在蚀刻过程中保持和测量基板的温度、压力、电压和功率。这有助于防止对基板的损坏并确保最佳蚀刻效果。还包括蚀刻压力监测仪；它监视主蚀刻室内的压力，并将其与预定设定点进行比较。此外，还包括一个后蚀刻室。这用于在蚀刻过程完成后清洗基板。对基板的清洗通常是使用高压气体，如氮气或氙气，以便安全处理蚀刻过程中残留的任何残留物。A601E 蚀刻器/asher能够在单个集成平台中提供高蚀刻速率和清洁的沉积表面。它提供了对压力、温度和电压的可靠控制，使其成为PVD和CVD工艺中蚀刻和预清洗沉积表面的理想选择。ALCATEL/ADIXEN/PFEIFFER A601E具有强大的性能、高效率和安全性,是蚀刻和清洁沉积表面的理想选择。
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