二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 8116 #9226745 待售

AMAT/APPLICED MATERIALS 8116是为中高批量生产而设计的等离子体蚀刻和asher系统。它能够处理几个行业的蚀刻和灰化需求，包括半导体、微电子和MEMS应用。AMAT 8116等离子体蚀刻和洗涤系统具有先进的等离子体蚀刻技术和自上而下的晶圆集成清洗功能,是清洁环境中可靠高效的等离子体蚀刻和洗涤选择。APPLIED MATERIALS 8116具有单个真空室,每个真空室一次最多可处理8个晶片。每个腔室都有自己的控制器和真空源，使得每个晶片都能独立蚀刻。这使得蚀刻和asher系统能够使用不同的蚀刻参数一次处理多个批次，从而提高吞吐量和生产率。8116的特点是使用RF功率进行等离子体产生，以及使用双等离子体源来防止可以由单一源设计引起的内部反射。它能够在多种气体中蚀刻，并能产生广泛的蚀刻速率和选择性。AMAT/APPLICED MATERIALS 8116的灵活性使得它可以用于多种关键的工业应用，包括材料加工、晶圆级封装和先进的制造工艺。AMAT 8116还具有自下而上的晶片加载机制和动态腔室压力，能够精确控制蚀刻过程。这使得它可以用于生产细腻的结构如氧化硅和氮化物薄膜，以及用于蚀刻高长宽比沟槽。它能够跨多个晶片执行蚀刻过程，使其成为半导体生产的重要工具。此外，APPLIED MATERIALS 8116包括一个独特的原位晶圆清洗过程，在每个循环后使用蚀刻气体清洗腔室。此功能可保持腔室清洁,并防止气体在蚀刻过程中重新循环。这降低了污染的风险，并确保蚀刻过程在多个晶片上是一致的。这增加了蚀刻工艺的整体质量和可靠性。总体而言,8116是一个功能强大且可靠的蚀刻和粉刷系统,专为中高批量生产而设计。它能够同时处理多达8个晶片，并采用先进的技术来确保一致的蚀刻过程和腔室的清洁度。其灵活性和原位晶片清洗特性使其成为半导体行业和许多其他行业中必不可少的工具。