二手 AMAT / APPLIED MATERIALS 8330 #293619549 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS 8330是利用微波等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术将各种氧化物和氮化物的薄膜沉积在硅和其他基材上的蚀刻器或灰化器。AMAT 8330提供了一种独特的功能、工艺一致性和灵活性组合,可以将薄膜成型到任何可达到的厚度（从十分之一埃到几百纳米）,从而能够用于各种设备和电路制造。APPLIED MATERIALS 8330设计用于高精度、受控的氧化物、氮化物和其他薄膜沉积。它具有高产、离子辅助的电子回旋共振（ECR）源。ECR源提供了增强的功率密度和均匀的沉积速率，使得8330能够同时支撑多个膜沉积。AMAT/APPLICED MATERIALS 8330配备了两个能量线圈（多源ECR技术），可以同时为每个基板提供高达3.2 kW的功率，从而大幅提高吞吐量。AMAT 8330包括可变压力、可变沉积配置,使用户能够在薄膜涂层之前对基板表面进行成形。该设备还具有对蚀刻沉积工艺的优化控制，以达到最佳的膜沉积、均匀性和速度。其腔室减少了壁反应性物质和腔室颗粒的沉积，进一步提高了过程的重复性和均匀性。在环境管理方面,APPLIED MATERIALS 8330旨在满足各种环境合规性标准,包括RoHS、REACH和SASO。这种设备设计在25至350摄氏度的温度下运行，为薄膜的沉积和保持均匀性提供卓越的温度控制。此外,8330还集成了一系列附加功能,允许用户存储其流程配方并提高流程灵活性。该系统还兼容多种计算机辅助设计（CAD）和计算机辅助工程（CAE）系统,包括AutoCAD和P&E,允许用户访问和设计过程配方。总之，AMAT/APPLIED MATERIALS 8330是一种高性能的蚀刻沉积系统，能够提供卓越的薄膜沉积能力、均匀性和控制性。它受控的环境和强大的ECR源，提供了增强的过程控制，而它的多源能力使得多膜沉积在同一时间。AMAT 8330还集成了多种功能,以确保环境合规性和易用性。